পণ্য

এপিটাক্সি এবং এমওসিভিডি-র মতো ওয়েফার হ্যান্ডলিং প্রক্রিয়াগুলির ক্ষেত্রে, প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য সেমিকোরেক্সের উচ্চ-তাপমাত্রা SiC আবরণ হল শীর্ষ পছন্দ। আমাদের বাহক আমাদের সূক্ষ্ম SiC ক্রিস্টাল আবরণের জন্য উচ্চতর তাপ প্রতিরোধ, এমনকি তাপ অভিন্নতা এবং টেকসই রাসায়নিক প্রতিরোধের প্রদান করে।

সেমিকোরেক্সের আইসিপি প্লাজমা এচিং ট্রে বিশেষভাবে উচ্চ-তাপমাত্রার ওয়েফার হ্যান্ডলিং প্রক্রিয়া যেমন এপিটাক্সি এবং এমওসিভিডির জন্য প্রকৌশলী। 1600°C পর্যন্ত একটি স্থিতিশীল, উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের সাথে, আমাদের বাহকগুলি এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, লেমিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণ প্রদান করে এবং দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার রোধ করে।

ICP প্লাজমা এচিং সিস্টেমের জন্য Semicorex এর SiC প্রলিপ্ত ক্যারিয়ার হল উচ্চ-তাপমাত্রা ওয়েফার হ্যান্ডলিং প্রক্রিয়া যেমন এপিটাক্সি এবং MOCVD এর জন্য একটি নির্ভরযোগ্য এবং সাশ্রয়ী সমাধান। আমাদের ক্যারিয়ারগুলিতে একটি সূক্ষ্ম SiC স্ফটিক আবরণ রয়েছে যা উচ্চতর তাপ প্রতিরোধের, এমনকি তাপীয় অভিন্নতা এবং টেকসই রাসায়নিক প্রতিরোধ প্রদান করে।

Inductively-Coupled Plasma (ICP) এর জন্য Semicorex-এর সিলিকন কার্বাইড প্রলিপ্ত সাসেপ্টর বিশেষভাবে এপিটাক্সি এবং MOCVD-এর মতো উচ্চ-তাপমাত্রা ওয়েফার হ্যান্ডলিং প্রক্রিয়ার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। 1600°C পর্যন্ত একটি স্থিতিশীল, উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের সাথে, আমাদের বাহকগুলি এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণগুলি নিশ্চিত করে এবং দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার রোধ করে।

সেমিকোরেক্সের আইসিপি এচিং ওয়েফার হোল্ডার হল এপিটাক্সি এবং এমওসিভিডি-র মতো উচ্চ-তাপমাত্রার ওয়েফার হ্যান্ডলিং প্রক্রিয়াগুলির জন্য নিখুঁত সমাধান। 1600°C পর্যন্ত একটি স্থিতিশীল, উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের সাথে, আমাদের বাহকগুলি এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণগুলি নিশ্চিত করে এবং দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার রোধ করে।

সেমিকোরেক্সের আইসিপি এচিং ক্যারিয়ার প্লেট হল ওয়েফার হ্যান্ডলিং এবং পাতলা ফিল্ম জমা করার প্রক্রিয়ার জন্য নিখুঁত সমাধান। আমাদের পণ্য উচ্চতর তাপ এবং জারা প্রতিরোধের, এমনকি তাপ অভিন্নতা, এবং ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহ নিদর্শন প্রদান করে। একটি পরিষ্কার এবং মসৃণ পৃষ্ঠের সাথে, আমাদের ক্যারিয়ার আদিম ওয়েফারগুলি পরিচালনা করার জন্য উপযুক্ত।