প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য উচ্চ-তাপমাত্রার SiC আবরণ

Semicorex-এ, আমরা উচ্চ-মানের ওয়েফার হ্যান্ডলিং সরঞ্জামের গুরুত্ব বুঝতে পারি। এই কারণেই আমাদের উচ্চ-তাপমাত্রার SiC আবরণ প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য বিশেষভাবে উচ্চ-তাপমাত্রা এবং কঠোর রাসায়নিক পরিষ্কারের পরিবেশের জন্য তৈরি করা হয়েছে। আমাদের ক্যারিয়ারগুলি এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণ প্রদান করে এবং দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার রোধ করে।
প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য আমাদের উচ্চ-তাপমাত্রা SiC আবরণ সম্পর্কে আরও জানতে আমাদের সাথে আজই যোগাযোগ করুন।

প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য উচ্চ-তাপমাত্রার SiC আবরণের পরামিতি

প্লাজমা ইচ চেম্বারের জন্য উচ্চ-তাপমাত্রার SiC আবরণের বৈশিষ্ট্য

- খোসা ছাড়ানো এড়িয়ে চলুন এবং সমস্ত পৃষ্ঠে আবরণ নিশ্চিত করুন

উচ্চ তাপমাত্রা অক্সিডেশন প্রতিরোধের: 1600 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীল

উচ্চ বিশুদ্ধতা: উচ্চ তাপমাত্রা ক্লোরিনেশন অবস্থার অধীনে CVD রাসায়নিক বাষ্প জমা দ্বারা তৈরি।

জারা প্রতিরোধের: উচ্চ কঠোরতা, ঘন পৃষ্ঠ এবং সূক্ষ্ম কণা।

জারা প্রতিরোধের: অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারক।

- সেরা ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহ প্যাটার্ন অর্জন করুন

- থার্মাল প্রোফাইলের সমতা গ্যারান্টি

- কোনো দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার রোধ করুন