চীন সিভিডি ফার্নেস প্রস্তুতকারক, সরবরাহকারী, কারখানা

রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়ার জন্য ব্যবহৃত CVD চুল্লি। রাসায়নিক বাষ্প জমা একটি প্রক্রিয়া যেখানে একটি পাতলা ফিল্ম বাষ্পীভূত পূর্ববর্তী গ্যাস এবং একটি উত্তপ্ত পৃষ্ঠের মধ্যে একটি রাসায়নিক বিক্রিয়া ব্যবহার করে একটি স্তরে জমা হয়।

সিভিডি ফার্নেসগুলি সাধারণত একটি ভ্যাকুয়াম চেম্বার, একটি গ্যাস বিতরণ ব্যবস্থা, একটি গরম করার ব্যবস্থা এবং একটি সাবস্ট্রেট ধারক নিয়ে গঠিত। ভ্যাকুয়াম চেম্বারটি জমা পরিবেশ থেকে বায়ু এবং অন্যান্য গ্যাসগুলি অপসারণ করতে ব্যবহৃত হয় যাতে অমেধ্যগুলি জমা প্রক্রিয়ায় হস্তক্ষেপ না করে। গ্যাস ডেলিভারি সিস্টেম পূর্ববর্তী গ্যাসগুলিকে সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠে পৌঁছে দেয় যেখানে তারা পছন্দসই পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে প্রতিক্রিয়া জানায়। গরম করার সিস্টেমটি প্রতিক্রিয়া ঘটানোর জন্য প্রয়োজনীয় তাপমাত্রায় স্তরটিকে উত্তপ্ত করে। জমা প্রক্রিয়া চলাকালীন সাবস্ট্রেট ধারকটি সাবস্ট্রেটটিকে যথাস্থানে ধরে রাখতে ব্যবহৃত হয়।

সিভিডি প্রক্রিয়ায়, অগ্রদূত গ্যাসগুলি ভ্যাকুয়াম চেম্বারে প্রবেশ করানো হয় এবং একটি তাপমাত্রায় উত্তপ্ত করা হয় যেখানে তারা পচে যায় এবং উত্তপ্ত স্তরের উপর একটি পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে বিক্রিয়া করে। কাঙ্ক্ষিত ফিল্ম বৈশিষ্ট্যগুলি অর্জন করা নিশ্চিত করতে জমা পরিবেশের তাপমাত্রা এবং চাপ সাবধানে নিয়ন্ত্রিত হয়।

সিভিডি ফার্নেসগুলি অর্ধপরিবাহী শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় যাতে ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট এবং সৌর কোষের মতো মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস তৈরির জন্য পাতলা ফিল্ম জমা হয়। এগুলি উন্নত উপকরণ যেমন আবরণ, অপটিক্যাল ফাইবার এবং সুপারকন্ডাক্টর তৈরিতেও ব্যবহৃত হয়।