সিক এপিট্যাক্সিয়াল মডিউল

প্রিমিয়াম গ্রেড, এসআইসি লেপযুক্ত গ্রাফাইট থেকে তৈরি সেমিকোরেক্স সিক এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটি এপিট্যাক্সিয়াল সরঞ্জামগুলির একটি অংশ যা সিলিকন কার্বাইড (এসআইসি) এপিট্যাক্সি প্রক্রিয়াগুলির সবচেয়ে কঠিন উপাদানগুলিকে প্রতিরোধ করার জন্য তৈরি করা হয়। রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে উচ্চ তাপমাত্রার জন্য বোঝানো এই মডিউলটি উচ্চমানের এসআইসির এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধির সময় ওয়েফারগুলির জন্য স্থিতিশীলতা এবং সমর্থন প্রদর্শনের ক্ষেত্রে একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। সেমিকোরেক্স এসআইসি মডিউলটি গুণমানের এসআইসি স্পেসিফিকেশনের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ এপিট্যাক্সিয়াল উপাদানের একটি নির্ভরযোগ্য এবং পুনরাবৃত্তিযোগ্য উত্পাদনের জন্য একটি কার্যকর বেস উপাদান।

সেমিকোরেক্স এসআইসি মডিউলটি সিলিকন কার্বাইড প্লেটিংয়ের ঘন এবং অভিন্ন স্তর দিয়ে আচ্ছাদিত একটি গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট এবং এটি সবচেয়ে গুরুতর প্রক্রিয়া কেমিস্ট্রিতে এমনকি কণা দূষণ এবং জারা প্রতিরোধী। এসআইসি লেপ অন্তর্নিহিত গ্রাফাইটের দূষণ এবং ক্ষয় নিষিদ্ধ করে এবং 1600 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেড পর্যন্ত যথেষ্ট যান্ত্রিক সহায়তা এবং সুরক্ষা সরবরাহ করে। এসআইসি মডিউলটি সিলিকন কার্বাইডের সামগ্রিক পরিধান, জারা এবং রাসায়নিক প্রতিরোধী বৈশিষ্ট্যের সাথে গ্রাফাইটের শক্তি এবং মেশিনেবিলিটিকে একত্রিত করে, এটি কঠোর এপিট্যাক্সিয়াল বায়ুমণ্ডলে স্থায়িত্বের ক্ষেত্রে মডিউলটির সেরা উপযুক্ত করে তোলে।

তাপ সাইক্লিং প্রক্রিয়া জুড়ে মাত্রিক পরিবর্তনকে হ্রাস করার সময় মডিউলটি একটি অভিন্ন তাপ প্রোফাইল সরবরাহ করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। ওয়েফার ফ্ল্যাটনেস এবং এপিট্যাক্সি ইউনিফর্মটি বজায় রাখার জন্য এই তাপীয় অভিন্নতা এবং স্থায়িত্ব অপরিহার্য। যদি ওয়েফার উচ্চ তাপীয় পরিবাহিতা সহ একটি স্থিতিশীল অবস্থান বজায় রাখে, তবে প্রক্রিয়াজাতকরণের সময় ওয়েফার জুড়ে তাপীয় পরিস্থিতি অভিন্ন হবে, যা ফলন, স্ফটিক গুণমান এবং অংশ ব্যর্থতা বা দূষণের সাথে সম্পর্কিত ডাউনটাইমকে ইতিবাচকভাবে প্রভাবিত করে।

এসআইসি এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটি হট-ওয়াল এবং ঠান্ডা-প্রাচীর সহ বেশ কয়েকটি এপিট্যাক্সিয়াল চুল্লিগুলির সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ এবং নির্দিষ্ট চুল্লী লেআউট এবং গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তার জন্য সমন্বিত করার জন্য আকৃতি এবং মাত্রাগুলি কাস্টমাইজ করার বিকল্প রয়েছে। এসআইসি এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটি 4 ইঞ্চি, 6 ইঞ্চি, এবং উদীয়মান 8 ইঞ্চি সিক এপিট্যাক্সি অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য উপযুক্ত, তবে সীমাবদ্ধ নয়। এসআইসি এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটির উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং অনুকূলিত জ্যামিতির কারণে, শারীরিক হস্তক্ষেপ গ্যাস প্রবাহ গতিশীলতা এবং তাপীয় গ্রেডিয়েন্টগুলির উপর এর প্রভাবকে হ্রাস করা হয় যা এপিট্যাক্সিয়াল স্তরটির আরও নিয়ন্ত্রিত বৃদ্ধিকে সমর্থন করে।

সেমিকোরেক্সের এসআইসি এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলগুলি এক্সেন্ট্রিক অ্যাসেমব্লিতে সর্বোচ্চ মানের নিয়ন্ত্রিত টুকরো উপস্থাপন করে। উচ্চ মানের নিয়ন্ত্রণ প্রোটোকল ছাড়াও, সেমিকোরেক্স ইউনিফর্ম, ঘন এবং নিম্ন-আউটগ্যাসিং এসআইসি ফিল্মগুলি প্রয়োগ করতে সর্বশেষতম আবরণ পদ্ধতিগুলি ব্যবহার করে। সেমিকোরেক্সের উচ্চ পারফরম্যান্স সিরামিক কোটিং এবং গ্রাফাইট মেশিনিং সনাক্তকরণ প্রক্রিয়া সুবিধাগুলির দীর্ঘ ইতিহাস রয়েছে যা ব্যাচ থেকে ব্যাচে সর্বোত্তম সম্ভাব্য জীবন, ধারাবাহিকতা এবং প্রক্রিয়া স্থিতিশীলতা সরবরাহ করে।

এসআইসি পাওয়ার ডিভাইসের দ্রুত বিকশিত ক্ষেত্রে, যেখানে উপাদানগুলির গুণমান সরাসরি ডিভাইসের কার্যকারিতা প্রভাবিত করে, এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটি কেবল একটি উপভোগযোগ্য নয়-এটি একটি সমালোচনামূলক সক্ষম। সেমিকোরেক্সের এসআইসি লেপযুক্ত গ্রাফাইট এপিট্যাক্সিয়াল মডিউলটি সিক এপিট্যাক্সিতে দক্ষতা, ফলন এবং ব্যয়-কার্যকারিতার সীমাটি ধাক্কা দেওয়ার জন্য গ্রাহকদের জন্য একটি শক্তিশালী, নির্ভরযোগ্য সমাধান সরবরাহ করে।