এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়ায় নিম্ন ব্যাফেলের জন্য দ্বিতীয় অর্ধেক অংশ

এপিটাক্সিয়াল প্রসেসে লোয়ার ব্যাফেলসের জন্য দ্বিতীয় অর্ধেক অংশে একটি স্বতন্ত্র আধা-নলাকার আকৃতি রয়েছে, যা এপিটাক্সিয়াল চুল্লির মধ্যে গ্যাস প্রবাহকে অপ্টিমাইজ করার জন্য কৌশলগতভাবে ডিজাইন করা হয়েছে। CVD SiC আবরণ সহ উচ্চ-মানের গ্রাফাইট থেকে তৈরি, এই অংশগুলি ব্যতিক্রমী স্থায়িত্ব এবং তাপীয় স্থিতিশীলতার গ্যারান্টি দেয়। সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের কঠোরতা সহ্য করার জন্য প্রকৌশলী, তারা আপনার সরঞ্জামের দীর্ঘায়ু এবং নির্ভরযোগ্যতায় অবদান রাখে।
উপাদানগুলি জটিলভাবে গ্যাস প্রবাহকে অপ্টিমাইজ করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির প্রক্রিয়া চলাকালীন উপকরণগুলির দক্ষ বিতরণ এবং জমা করা নিশ্চিত করে। এর ফলে সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারগুলিতে উচ্চতর স্তরের গুণমান পাওয়া যায়।

অ্যাপ্লিকেশন:

সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের মধ্যে এপিটাক্সিয়াল চুল্লির জন্য তৈরি।

সুনির্দিষ্ট এবং অভিন্ন এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি অর্জনের জন্য গুরুত্বপূর্ণ উপাদান।

এপিটাক্সিয়াল প্রসেসে লোয়ার ব্যাফেলের জন্য আমাদের সেকেন্ড হাফ পার্টস দিয়ে আপনার সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং ক্ষমতা বাড়ান। বর্ধিত স্থায়িত্বের জন্য CVD SiC দিয়ে প্রলিপ্ত আমাদের আধা-নলাকার উপাদানগুলির উদ্ভাবন এবং নির্ভরযোগ্যতার উপর আস্থা রাখুন। সর্বোত্তম কর্মক্ষমতা এবং সামঞ্জস্যপূর্ণ এপিটাক্সিয়াল স্তর গুণমান নিশ্চিত করে এই উন্নত ফিটিংগুলির সাথে সেমিকন্ডাক্টর প্রযুক্তির অগ্রভাগে থাকুন৷ এপিটাক্সিয়াল প্রসেসে লোয়ার ব্যাফেলের জন্য সেকেন্ড হাফ পার্টস বেছে নিন—যেখানে সূক্ষ্মতা অগ্রগতি পূরণ করে।