সিক লেপ ফ্ল্যাট অংশ

সেমিকোরেক্স এসআইসি লেপ ফ্ল্যাট অংশটি একটি উচ্চ-পারফরম্যান্স এসআইসি-প্রলিপ্ত গ্রাফাইট উপাদান যা নির্দিষ্টভাবে এসআইসি এপিট্যাক্সি প্রক্রিয়াটির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এর প্রাথমিক কাজটি হ'ল ইউনিফর্ম এয়ারফ্লো চালনার সুবিধার্থে এবং এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধির পর্যায়ে ধারাবাহিক গ্যাস বিতরণ নিশ্চিত করা, এটি এসআইসি সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের একটি অপরিহার্য উপাদান হিসাবে তৈরি করে। সেমিকোরেক্স নির্বাচন করা সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য তৈরি উচ্চতর গুণমান এবং যথার্থ-ইঞ্জিনিয়ারড সমাধানগুলির গ্যারান্টি দেয়।

এসআইসি লেপ উচ্চ তাপমাত্রা, রাসায়নিক জারা এবং তাপীয় বিকৃতিগুলির ব্যতিক্রমী প্রতিরোধ সরবরাহ করে, যা দাবিদার পরিবেশে দীর্ঘস্থায়ী কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে। গ্রাফাইট বেসটি উপাদানটির কাঠামোগত অখণ্ডতা বাড়ায়, যখন ইউনিফর্ম এসআইসি লেপ সংবেদনশীল এপিট্যাক্সি প্রক্রিয়াগুলির জন্য একটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা পৃষ্ঠকে সমালোচনামূলকভাবে নিশ্চিত করে। উপকরণগুলির এই সংমিশ্রণটি এসআইসি লেপ ফ্ল্যাট অংশটিকে ইউনিফর্ম এপিট্যাক্সিয়াল স্তরগুলি অর্জন এবং সামগ্রিক উত্পাদন দক্ষতা অনুকূলকরণের জন্য একটি নির্ভরযোগ্য সমাধান করে তোলে।

গ্রাফাইটের দুর্দান্ত তাপ পরিবাহিতা এবং স্থায়িত্ব এপিট্যাক্সিয়াল সরঞ্জামগুলিতে একটি উপাদান হিসাবে উল্লেখযোগ্য সুবিধা সরবরাহ করে। তবে, একা খাঁটি গ্রাফাইট ব্যবহার করা বেশ কয়েকটি সমস্যা নিয়ে যেতে পারে। উত্পাদন প্রক্রিয়া চলাকালীন, ক্ষয়কারী গ্যাস এবং ধাতব-জৈব অবশিষ্টাংশগুলি গ্রাফাইট বেসকে ক্ষয় এবং অবনতি ঘটাতে পারে, এর পরিষেবা জীবনকে উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস করে। অতিরিক্তভাবে, যে কোনও গ্রাফাইট পাউডার পড়ে যা চিপকে দূষিত করতে পারে, বেস প্রস্তুতির সময় এই সমস্যাগুলি সমাধান করা অপরিহার্য করে তোলে।

লেপ প্রযুক্তি পৃষ্ঠের গুঁড়ো স্থির করে, তাপীয় পরিবাহিতা বাড়ানো এবং তাপ বিতরণকে ভারসাম্য বজায় রেখে এই সমস্যাগুলি কার্যকরভাবে প্রশমিত করতে পারে। গ্রাফাইট বেসের স্থায়িত্ব নিশ্চিত করার জন্য এই প্রযুক্তিটি গুরুত্বপূর্ণ। অ্যাপ্লিকেশন পরিবেশ এবং নির্দিষ্ট ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তার উপর নির্ভর করে পৃষ্ঠের আবরণটি নিম্নলিখিত বৈশিষ্ট্যগুলির অধিকারী হওয়া উচিত:

1। উচ্চ ঘনত্ব এবং সম্পূর্ণ কভারেজ: গ্রাফাইট বেসটি একটি উচ্চ-তাপমাত্রা, ক্ষয়কারী পরিবেশে কাজ করে এবং অবশ্যই সম্পূর্ণরূপে আচ্ছাদিত থাকতে হবে। কার্যকর সুরক্ষা সরবরাহ করতে আবরণ অবশ্যই ঘন হতে হবে।

2। ভাল পৃষ্ঠের সমতলতা: একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত গ্রাফাইট বেসটি খুব উচ্চ পৃষ্ঠের সমতলতার দাবি করে। অতএব, আবরণ প্রক্রিয়াটি অবশ্যই বেসের মূল সমতলতা বজায় রাখতে হবে, এটি নিশ্চিত করে যে লেপ পৃষ্ঠটি অভিন্ন।

3। শক্তিশালী বন্ধন শক্তি: গ্রাফাইট বেস এবং লেপ উপাদানগুলির মধ্যে বন্ধন উন্নত করতে, তাপীয় প্রসারণ সহগের পার্থক্য হ্রাস করা গুরুত্বপূর্ণ। এই বর্ধনটি নিশ্চিত করে যে উচ্চ এবং নিম্ন-তাপমাত্রার তাপ চক্রের পরেও আবরণটি অক্ষত থাকে।

4। উচ্চ তাপীয় পরিবাহিতা: অনুকূল চিপ বৃদ্ধির জন্য, গ্রাফাইট বেসটি অবশ্যই দ্রুত এবং অভিন্ন তাপ বিতরণ সরবরাহ করতে হবে। ফলস্বরূপ, লেপ উপাদানগুলির উচ্চ তাপ পরিবাহিতা থাকা উচিত।

5 ... উচ্চ গলনাঙ্ক এবং জারণ এবং জারা প্রতিরোধের প্রতিরোধের: লেপটি অবশ্যই উচ্চ-তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী পরিবেশে নির্ভরযোগ্যভাবে কাজ করতে সক্ষম হতে হবে।

এই মূল বৈশিষ্ট্যগুলিতে মনোনিবেশ করে, এপিট্যাক্সিয়াল সরঞ্জামগুলিতে গ্রাফাইট-ভিত্তিক উপাদানগুলির দীর্ঘায়ু এবং কার্য সম্পাদন উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করা যেতে পারে।

উন্নত উত্পাদন কৌশলগুলির সাথে, সেমিকোরেক্স নির্দিষ্ট প্রক্রিয়া প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য কাস্টমাইজড ডিজাইন সরবরাহ করে। এসআইসি লেপ ফ্ল্যাট অংশটি ডাইমেনশনাল নির্ভুলতা এবং স্থায়িত্বের জন্য কঠোরভাবে পরীক্ষা করা হয়, অর্ধপরিবাহী উপকরণগুলিতে শ্রেষ্ঠত্বের প্রতি সেমিকোরেক্সের প্রতিশ্রুতি প্রতিফলিত করে। ভর উত্পাদন বা গবেষণা সেটিংসে ব্যবহৃত হোক না কেন, এই উপাদানটি সিক এপিট্যাক্সি অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ এবং উচ্চ ফলন নিশ্চিত করে।