8 ইঞ্চি EPI নীচে রিং

সেমিকোরেক্স 8 ইঞ্চি ইপিআই বটম রিং একটি গুরুত্বপূর্ণ কাঠামোগত অংশ যা সেমিকন্ডাক্টর এপিট্যাক্সি সরঞ্জামগুলির জন্য ব্যবহৃত হয় এবং এটি সম্পূর্ণ সংবেদনশীল সমাবেশের নীচের রিং হিসাবে বিশেষভাবে ডিজাইন করা হয়েছে। নীচের রিংটি ওয়েফারের এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধির সময় ওয়েফার ক্যারিয়ার সিস্টেমকে সমর্থন করে যখন মেকিস্কা স্থিতিশীলতা, তাপীয় অভিন্নতা এবং প্রক্রিয়া অখণ্ডতা যা উচ্চ পারফরম্যান্স সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারগুলি তৈরির জন্য প্রয়োজনীয়। নীচের রিংটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট থেকে তৈরি করা হয় যা সিলিকন কার্বাইড (এসআইসি) এর ঘন এবং অভিন্ন লেপ সহ পৃষ্ঠের স্তরে লেপযুক্ত রয়েছে। ফলস্বরূপ, এটি চরম তাপ এবং রাসায়নিক অবস্থার অধীনে উন্নত এপিট্যাক্সিয়াল চুল্লিগুলির জন্য একটি অত্যন্ত নির্ভরযোগ্য বিকল্পের প্রতিনিধিত্ব করে।

হালকা ওজন, দুর্দান্ত তাপীয় কন্ডাক্টর এবং উচ্চ তাপমাত্রার অধীনে স্পর্শকীয় এবং উল্লম্ব মাত্রাগুলির স্থায়িত্বের সাথে নন-কমপ্লেক্স নির্মাণের কারণে গ্রাফাইটটি নীচের রিংয়ের জন্য সবচেয়ে উপযুক্ত বেস উপাদান। এই বৈশিষ্ট্যগুলি নীচের রিংটিকে গতিতে তাপীয়ভাবে চক্রের অনুমতি দেয় এবং তাই পরিষেবাতে থাকাকালীন যান্ত্রিক কর্মক্ষমতাতে ধারাবাহিক ধারাবাহিকতা প্রদর্শন করে। এসআইসি বাইরের আবরণ একটি ঘন এবং ত্রুটি-মুক্ত সিরামিক বাইরের স্তর তৈরির জন্য একটি রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) প্রক্রিয়া ব্যবহার করে প্রয়োগ করা হয়। তদতিরিক্ত, সিভিডি প্রক্রিয়াটি এমন একটি প্রক্রিয়া সরবরাহ করে যা অন্তর্নিহিত সাবস্ট্রেট গ্রাফাইটকে বিরক্ত না করার জন্য সিক লেপকে পরিচালনা করে পরিধান এবং কণা প্রজন্মকে সীমাবদ্ধ করে। এসআইসি এবং গ্রাফাইটের সংমিশ্রণ হিসাবে, এসআইসি পৃষ্ঠের স্তরটি প্রসেস গ্যাসগুলির ক্ষয়কারী ক্রিয়ায় রাসায়নিকভাবে জড় হয়, বিশেষত হাইড্রোজেন এবং ক্লোরিনযুক্ত উপজাতগুলি সহ, এবং উভয়ই দুর্দান্ত কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের - ব্যবহারের সময় ওয়েফার ক্যারিয়ার সিস্টেমকে যতটা সম্ভব সমর্থন নিশ্চিত করে।

8 ইঞ্চি ইপিআই নীচের রিংটি বেশিরভাগ অনুভূমিক বা উল্লম্ব এমওসিভিডি এবং সিভিডি এপিট্যাক্সিয়াল সরঞ্জামগুলির সাথে সামঞ্জস্যের জন্য তৈরি করা হয় যা সিলিকন, সিলিকন কার্বাইড বা যৌগিক অর্ধপরিবাহী জমা দেয়। অপ্টিমাইজড জ্যামিতিটি সুনির্দিষ্ট প্রান্তিককরণ, সর্বজনীন তাপ বিতরণ এবং ওয়েফার রোটেশনে স্থিতিশীলতার সাথে ওয়েফার হোল্ডার সিস্টেমের সংবেদনশীল এবং শীর্ষ উপাদানগুলির সাথে ফিট করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এপিট্যাক্সিয়াল স্তর অভিন্নতা আমদানি করতে এবং ওয়েফার পৃষ্ঠের ত্রুটিগুলি হ্রাস করার জন্য রিং বৈশিষ্ট্যটির দুর্দান্ত সমতলতা এবং ঘনত্ব।

এই এসআইসি প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিংয়ের অন্যতম সুবিধা হ'ল নিম্ন কণা নির্গমন আচরণ যা প্রক্রিয়াজাতকরণের সময় ওয়েফারের দূষণকে হ্রাস করে। পরিষ্কার চেম্বারের পরিবেশ এবং উচ্চতর ফলনের হার অর্জনের জন্য আন-লেপযুক্ত গ্রাফাইট উপাদানগুলির তুলনায় এসআইসি স্তরটি কার্বন কণার আউট-গ্যাসিং এবং প্রজন্মকে হ্রাস করে। এছাড়াও, যৌগিক কাঠামোর দুর্দান্ত তাপীয় শক প্রতিরোধের পণ্যটির জীবন দীর্ঘায়িত করে, অর্ধপরিবাহী নির্মাতাদের জন্য প্রতিস্থাপন এবং কম অপারেশন ব্যয় হ্রাস করে।

সমস্ত নীচের রিংগুলি মাত্রিকভাবে চেক করা হয়, পৃষ্ঠের গুণমান পরীক্ষা করা হয় এবং তাপ চক্রটি পরীক্ষা করা হয় যাতে তারা একটি অর্ধপরিবাহী উত্পাদকের পরিবেশের উল্লেখযোগ্য পরিবেশগত প্রয়োজনগুলি পূরণ করে তা নিশ্চিত করে। অতিরিক্তভাবে, এসআইসি পৃষ্ঠের আবরণ বেধ যান্ত্রিক এবং তাপীয় সম্ভাব্য সামঞ্জস্যের জন্য পর্যাপ্ত চেয়ে বেশি; নীচের রিংগুলি উচ্চ তাপমাত্রা জমার সংস্পর্শে এলে খোসা ছাড়ানো বা ফ্লেকিং না ঘটে তা নিশ্চিত করে আঠালো কারণগুলির জন্য এসআইসি লেপগুলি নিয়মিত পরীক্ষা করা হয়। ফ্ল্যাট নীচের রিংটি পৃথক চুল্লী ডিজাইন এবং প্রক্রিয়া অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য কয়েকটি ছোট ছোট মাত্রিক এবং লেপ সম্পত্তি পরিবর্তনের সাথে কাস্টমাইজ করা যেতে পারে।

সেমিকোরেক্স থেকে সেমিকোরেক্স 8 ইঞ্চি এপি নীচে রিংটি এপিট্যাক্সিয়াল গ্রোথ সিস্টেমগুলির জন্য শক্তি, রাসায়নিক প্রতিরোধের এবং অনুকূল তাপীয় বৈশিষ্ট্যগুলির একটি দুর্দান্ত ভারসাম্য সরবরাহ করে। এসআইসি প্রলিপ্ত গ্রাফাইটের জ্ঞাত সুবিধার কারণে, এই নীচের রিংটি উচ্চতর তাপমাত্রা জমার প্রক্রিয়াতে উচ্চতর ওয়েফার গুণমান, নিম্ন দূষণের সম্ভাবনা এবং দীর্ঘতর পরিষেবা জীবন সরবরাহ করে। এই নীচের রিংটি এসআই, এসআইসি বা III-ভি উপাদান এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধির সাথে ব্যবহারের জন্য ইঞ্জিনিয়ার করা হয়েছে; এটি দাবিদার অর্ধপরিবাহী উপাদান উত্পাদনে নির্ভরযোগ্য, পুনরাবৃত্তিযোগ্য স্বাচ্ছন্দ্যের প্রস্তাব দেওয়া হয়।