একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেকট্রোড

একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোডসাধারণত এচিং চেম্বারের শীর্ষে ইনস্টল করা হয়, উপরের ইলেক্ট্রোড হিসাবে পরিবেশন করে। একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোডের পৃষ্ঠে সমানভাবে বিতরণ করা মাইক্রোহোল রয়েছে, যা প্রতিক্রিয়া চেম্বারে সমানভাবে এচিং গ্যাস সরবরাহ করতে পারে। এচিং প্রক্রিয়া চলাকালীন, তারা একটি অভিন্ন বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র তৈরি করতে নিম্ন ইলেক্ট্রোডের সাথে কাজ করে, যা নির্ভুল এচিংয়ের জন্য একটি আদর্শ অপারেটিং অবস্থা প্রদানে অবদান রাখে।

সাবধানে উপাদান নির্বাচন

সেমিকোরেক্স একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোড তৈরি করতে প্রিমিয়াম MCZ-উত্থিত মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন নির্বাচন করে, যা শিল্প-নেতৃস্থানীয় পণ্যের কার্যকারিতা এবং গুণমান সরবরাহ করে।

1. অতি উচ্চ বিশুদ্ধতা

সেমিকোরেক্স একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোড 99.9999999% এর একটি অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা বৈশিষ্ট্যযুক্ত, যার অর্থ হল অভ্যন্তরীণ ধাতব অমেধ্যের বিষয়বস্তু অত্যন্ত কম।

2. ব্যতিক্রমী প্রতিরোধের অভিন্নতা

প্রচলিত CZ একক-ক্রিস্টাল সিলিকন থেকে ভিন্ন, সেমিকোরেক্স দ্বারা ব্যবহৃত MCZ-উত্থিত মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন 5% এর নিচে প্রতিরোধী অভিন্নতা অর্জন করে। এর রেজোলিউশন কম। 0.02 Ω·cm এর নিচে নিয়ন্ত্রিত হয়, মাঝের রেস। 0.2 এবং 25Ω·সেমি, এবং উচ্চ রেজোলিউশনের মধ্যে। 70-90 Ω·cm এর মধ্যে (অনুরোধের ভিত্তিতে কাস্টমাইজেশন উপলব্ধ)।

3. চমৎকার উপাদান গঠন

MCZ পদ্ধতির মাধ্যমে উত্থিত একক-ক্রিস্টাল সিলিকন আরও স্থিতিশীল কাঠামো এবং কম ত্রুটিগুলি সরবরাহ করে, যার ফলে সেমিকোরেক্স একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোডগুলি অসাধারণ প্লাজমা ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা প্রদান করে এবং কঠোর এচিং অপারেটিং পরিস্থিতি সহ্য করে।

---

উচ্চ-মান প্রক্রিয়াকরণ নির্ভুলতা

সেমিকোরেক্সএকক-ক্রিস্টাল সিলিকনইলেক্ট্রোডগুলি সিলিকন ইনগট থেকে সমাপ্ত পণ্য পর্যন্ত একটি সম্পূর্ণ উত্পাদন প্রক্রিয়ার মাধ্যমে তৈরি করা হয়, যার মধ্যে স্লাইসিং, পৃষ্ঠ গ্রাইন্ডিং, হোল ড্রিলিং, ওয়েট এচিং এবং সারফেস পলিশিং। সেমিকোরেক্স প্রতিটি ধাপে কঠোর নির্ভুলতা নিয়ন্ত্রণ করে যাতে ব্যাস, পুরুত্ব, পৃষ্ঠের সমতলতা, গর্তের ব্যবধান এবং ইলেক্ট্রোডের অ্যাপারচার আদর্শ সহনশীলতার মধ্যে বজায় থাকে।

1. মাইক্রোহোল প্রক্রিয়াকরণ

একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোডের মাইক্রো-হোলগুলিতে মসৃণ এবং বুর-মুক্ত অভ্যন্তরীণ দেয়াল সহ অভিন্ন ব্যবধান এবং সামঞ্জস্যপূর্ণ ব্যাস (0.2 থেকে 0.8 মিমি পর্যন্ত) রয়েছে। এটি কার্যকরভাবে এচিং গ্যাসের অভিন্ন এবং স্থিতিশীল সরবরাহের গ্যারান্টি দেয়, এইভাবে ওয়েফার এচিং এর অভিন্নতা এবং নির্ভুলতা নিশ্চিত করে।

2. প্রক্রিয়াকরণ নির্ভুলতা

সেমিকোরেক্স একক-ক্রিস্টাল সিলিকন ইলেক্ট্রোডগুলির প্রক্রিয়াকরণের নির্ভুলতা 0.3 মিমি এর মধ্যে নিয়ন্ত্রিত হয়, এবং তাদের পলিশিং নির্ভুলতা 0.1 µm এর নিচে কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা যায় এবং সূক্ষ্ম গ্রাইন্ডিং 1.6 µm এর কম।