সেমিকোরেক্স এসআইসি লেপযুক্ত ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি উচ্চ-তাপমাত্রার অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াগুলির সময় অনুকূল ওয়েফার সমর্থনের জন্য ডিজাইন করা সিভিডি সিলিকন কার্বাইডের সাথে লেপযুক্ত উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট সংবেদনশীল। তুলনামূলক লেপ মান, নির্ভুলতা উত্পাদন এবং বিশ্বব্যাপী শীর্ষস্থানীয় অর্ধপরিবাহী ফ্যাবস দ্বারা বিশ্বাসযোগ্য নির্ভরযোগ্যতার জন্য সেমিকোরেক্স চয়ন করুন*
সেমিকোরেক্স এসআইসি লেপযুক্ত ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি উন্নত উপাদান যা এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধি, বিস্তৃতি এবং সিভিডি-র মতো অর্ধপরিবাহী অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে উচ্চ-তাপমাত্রা প্রক্রিয়াগুলির জন্য ওয়েফারগুলিকে সমর্থন করে। ক্যারিয়ারগুলি ঘন এবং ইউনিফর্ম ব্যবহার করে সর্বাধিক পৃষ্ঠের সুবিধার সাথে মিলিত উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট থেকে কাঠামোগত সুবিধাগুলি সরবরাহ করেসিক লেপসর্বোত্তম তাপীয় স্থায়িত্ব, রাসায়নিক প্রতিরোধের এবং কঠোর প্রক্রিয়াজাতকরণের অবস্থার অধীনে যান্ত্রিক শক্তির জন্য।
সর্বোত্তম তাপ পরিবাহিতা জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট কোর
এসআইসি লেপযুক্ত ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি অতি-জরিমানা শস্য, উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইটের একটি স্তরযুক্ত উপাদান। এটি একটি দক্ষ তাপীয় কন্ডাক্টর, উভয় হালকা এবং মেশিনযোগ্য হওয়ায় এটি জটিল জ্যামিতিগুলিতে বানোয়াট হতে পারে যা অনন্য ওয়েফার আকার এবং প্রক্রিয়া কারণগুলির দ্বারা প্রয়োজনীয়। গ্রাফাইট তাপীয় গ্রেডিয়েন্ট এবং তাপ প্রক্রিয়াকরণ ত্রুটিগুলির সংঘটনকে সীমাবদ্ধ করে ওয়েফার পৃষ্ঠে অভিন্ন গরম করার প্রস্তাব দেয়।
পৃষ্ঠ সুরক্ষা এবং প্রক্রিয়া সামঞ্জস্যতার জন্য ঘন সিক লেপ
গ্রাফাইট ক্যারিয়ারটি উচ্চ বিশুদ্ধতা, সিভিডি সিলিকন কার্বাইডের সাথে লেপযুক্ত। এসআইসি লেপ হাইড্রোজেন, ক্লোরিন এবং সিলেনের মতো প্রজাতি থেকে জারা, জারণ এবং গ্যাস দূষণের বিরুদ্ধে দুর্ভেদ্য, ছিদ্র মুক্ত সুরক্ষা সরবরাহ করে। শেষ ফলাফলটি একটি নিম্ন-বিভাজন, শক্ত বাহক যা মাত্রিক স্থিতিশীলতা হ্রাস করে না বা হারাবে না, অসংখ্য তাপীয় চক্রের সাপেক্ষে বেছে নেয় এবং ওয়েফার দূষণের জন্য উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস সম্ভাবনার প্রতিনিধিত্ব করে।
সুবিধা এবং মূল বৈশিষ্ট্য
তাপ প্রতিরোধের: এসআইসি আবরণগুলি 1600 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডের বেশি তাপমাত্রায় স্থিতিশীল, যা উচ্চ তাপমাত্রার এপিট্যাক্সি এবং বিস্তারের প্রয়োজনের জন্য অনুকূলিত হয়।
দুর্দান্ত রাসায়নিক প্রতিরোধী: এটি সমস্ত ক্ষয়কারী প্রক্রিয়া গ্যাস এবং পরিষ্কার রাসায়নিকগুলি সহ্য করে এবং দীর্ঘ জীবন এবং কম ডাউনটাইমের জন্য অনুমতি দেয়।
নিম্ন কণা জেনারেশন: এসআইসি পৃষ্ঠটি ফ্লেকিং এবং কণা শেডিংকে হ্রাস করে এবং ডিভাইসের ফলনের জন্য গুরুত্বপূর্ণ প্রক্রিয়া পরিবেশকে পরিষ্কার করে রাখে।
মাত্রা নিয়ন্ত্রণ: অভিন্ন ওয়েফার সমর্থন নিশ্চিত করতে সহনশীলতা বন্ধ করার জন্য যথাযথভাবে ইঞ্জিনিয়ারড যাতে এটি ওয়েফারগুলির সাথে স্বয়ংক্রিয়ভাবে পরিচালনা করা যায়।
ব্যয় হ্রাস: দীর্ঘ জীবনচক্র এবং কম রক্ষণাবেক্ষণের প্রয়োজনগুলি traditional তিহ্যবাহী গ্রাফাইট বা খালি ক্যারিয়ারের তুলনায় কম মোট মালিকানা (টিসিও) সরবরাহ করে।
অ্যাপ্লিকেশন:
এসআইসি লেপযুক্ত ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি পাওয়ার সেমিকন্ডাক্টর, যৌগিক অর্ধপরিবাহী (যেমন গাএন, এসআইসি), এমইএমএস, এলইডি এবং অন্যান্য ডিভাইসগুলির আগ্রাসী রাসায়নিক পরিবেশে উচ্চ-তাপমাত্রার প্রক্রিয়াজাতকরণের জন্য প্রয়োজনীয় উত্পাদনগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এপিট্যাক্সিয়াল চুল্লিগুলিতে এগুলি বিশেষত প্রয়োজনীয়, যেখানে পৃষ্ঠের পরিষ্কার -পরিচ্ছন্নতা, স্থায়িত্ব এবং তাপীয় অভিন্নতা সরাসরি ওয়েফার গুণমান এবং উত্পাদন দক্ষতাকে প্রভাবিত করে।
কাস্টমাইজেশন এবং মান নিয়ন্ত্রণ
সেমিকোরেক্সসিক লেপাওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি কঠোর মানের নিয়ন্ত্রণ প্রোটোকলের অধীনে উত্পাদিত হয়। আমাদের স্ট্যান্ডার্ড আকার এবং কনফিগারেশনগুলির সাথেও নমনীয়তা রয়েছে এবং আমরা কাস্টম ইঞ্জিনিয়ার সমাধানগুলি যা গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে। আপনার কাছে 4 ইঞ্চি বা 12 ইঞ্চি ওয়েফার ফর্ম্যাট রয়েছে কিনা আমরা অনুভূমিক বা উল্লম্ব চুল্লি, ব্যাচ বা একক ওয়েফার প্রসেসিং এবং নির্দিষ্ট এপিট্যাক্সি রেসিপিগুলির জন্য ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি অনুকূল করতে পারি।