- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
খবর
3C-SiC এর হেটেরোপিটাক্সি: একটি ওভারভিউ
3C-SiC এর বিকাশ, সিলিকন কার্বাইডের একটি উল্লেখযোগ্য পলিটাইপ, অর্ধপরিবাহী পদার্থ বিজ্ঞানের ক্রমাগত অগ্রগতি প্রতিফলিত করে। 1980 এর দশকে, নিশিনো এট আল। রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD)[1] ব্যবহার করে একটি সিলিকন সাবস্ট্রেটে প্রথমে একটি 4 μm পুরু 3C-SiC ফিল্ম অর্জন করেছে, 3C-SiC পাতলা-ফিল্ম প্রযুক্তির ভিত্তি স......
আরও পড়ুন
উচ্চ-বিশুদ্ধ CVD পুরু SiC: উপাদান বৃদ্ধির জন্য প্রক্রিয়া অন্তর্দৃষ্টি
পুরু, উচ্চ-বিশুদ্ধতার সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্তরগুলি, সাধারণত 1 মিমি অতিক্রম করে, সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশন এবং মহাকাশ প্রযুক্তি সহ বিভিন্ন উচ্চ-মূল্যের অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। এই নিবন্ধটি এই জাতীয় স্তর তৈরি করার জন্য রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়া সম্পর্কে আলোচনা করে, মূল প্......
আরও পড়ুন
মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন বনাম পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন
একক ক্রিস্টাল সিলিকন এবং পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন প্রতিটির নিজস্ব অনন্য সুবিধা এবং প্রযোজ্য পরিস্থিতি রয়েছে। একক ক্রিস্টাল সিলিকন তার চমৎকার বৈদ্যুতিক এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যের কারণে উচ্চ-কর্মক্ষমতা ইলেকট্রনিক পণ্য এবং মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্সের জন্য উপযুক্ত। পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন, অন্যদিকে, কম খরচে এবং......
আরও পড়ুন
সাবস্ট্রেট এবং এপিটাক্সি
ওয়েফার তৈরির প্রক্রিয়ায়, দুটি মূল লিঙ্ক রয়েছে: একটি হল সাবস্ট্রেটের প্রস্তুতি, এবং অন্যটি হল এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়ার বাস্তবায়ন। সাবস্ট্রেট, অর্ধপরিবাহী একক স্ফটিক উপাদান দিয়ে সাবধানে তৈরি একটি ওয়েফার, সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস তৈরির ভিত্তি হিসাবে সরাসরি ওয়েফার উত্পাদন প্রক্রিয়ার মধ্যে রাখা যেত......
আরও পড়ুন
রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডি) বোঝা: একটি ব্যাপক ওভারভিউ
কেমিক্যাল ভ্যাপার ডিপোজিশন (সিভিডি) হল একটি বহুমুখী পাতলা-ফিল্ম ডিপোজিশন কৌশল যা সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে বিভিন্ন সাবস্ট্রেটে উচ্চ-মানের, কনফর্মাল পাতলা ফিল্ম তৈরির জন্য ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এই প্রক্রিয়াটি একটি উত্তপ্ত স্তর পৃষ্ঠের উপর বায়বীয় অগ্রদূতের রাসায়নিক বিক্রিয়া জড়িত, যার ফলে একটি কঠিন ......
আরও পড়ুন
