রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়ায়, ব্যবহৃত গ্যাসগুলির মধ্যে প্রধানত বিক্রিয়ক গ্যাস এবং বাহক গ্যাস অন্তর্ভুক্ত থাকে। বিক্রিয়ক গ্যাসগুলি জমা হওয়া উপাদানের জন্য পরমাণু বা অণু সরবরাহ করে, যখন বাহক গ্যাসগুলি প্রতিক্রিয়া পরিবেশকে পাতলা এবং নিয়ন্ত্রণ করতে ব্যবহৃত হয়। নীচে কিছু সাধারণভাবে ব্যবহৃত......
আরও পড়ুনবিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশন পরিস্থিতিতে গ্রাফাইট পণ্যগুলির জন্য বিভিন্ন কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা রয়েছে, সুনির্দিষ্ট উপাদান নির্বাচনকে গ্রাফাইট পণ্যগুলির প্রয়োগের একটি মূল পদক্ষেপ করে তোলে। অ্যাপ্লিকেশন পরিস্থিতির সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ কর্মক্ষমতা সহ গ্রাফাইট উপাদানগুলি নির্বাচন করা শুধুমাত্র কার্যকরভাবে তাদ......
আরও পড়ুনরাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) সিলিকন কার্বাইড (Sic) প্রক্রিয়া প্রযুক্তি নিয়ে আলোচনা করার আগে, আসুন প্রথমে "রাসায়নিক বাষ্প জমা" সম্পর্কে কিছু প্রাথমিক জ্ঞান পর্যালোচনা করি। রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) বিভিন্ন আবরণ প্রস্তুত করার জন্য একটি সাধারণভাবে ব্যবহৃত কৌশল। এটি একটি অভিন্ন পাতলা ফিল্ম বা আবরণ গঠ......
আরও পড়ুনএকক ক্রিস্টাল বৃদ্ধির তাপীয় ক্ষেত্র হল একক স্ফটিক বৃদ্ধির প্রক্রিয়া চলাকালীন উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লির মধ্যে তাপমাত্রার স্থানিক বন্টন, যা একক স্ফটিকের গুণমান, বৃদ্ধির হার এবং স্ফটিক গঠনের হারকে সরাসরি প্রভাবিত করে। তাপীয় ক্ষেত্রকে স্থির-স্থিতি এবং ক্ষণস্থায়ী প্রকারে ভাগ করা যায়। স্থির-স্থিত তাপীয......
আরও পড়ুনউন্নত সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং প্রক্রিয়ার একাধিক ধাপ নিয়ে গঠিত, যার মধ্যে রয়েছে পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশন, ফটোলিথোগ্রাফি, এচিং, আয়ন ইমপ্লান্টেশন, রাসায়নিক যান্ত্রিক পলিশিং। এই প্রক্রিয়া চলাকালীন, প্রক্রিয়ার ক্ষুদ্র ত্রুটিগুলিও চূড়ান্ত সেমিকন্ডাক্টর চিপগুলির কার্যকারিতা এবং নির্ভরযোগ্যতার উপ......
আরও পড়ুনউচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট প্লেটগুলি হল প্রিমিয়াম কাঁচামাল থেকে তৈরি প্লেট-আকৃতির কার্বন উপাদান যার মধ্যে রয়েছে পেট্রোলিয়াম কোক, পিচ কোক বা উচ্চ-বিশুদ্ধ প্রাকৃতিক গ্রাফাইট যা ক্যালসিনেশন, গিঁট দেওয়া, গঠন, বেকিং, উচ্চ-তাপমাত্রা গ্রাফিটাইজেশন (2800 ℃ এর উপরে) এবং বিশুদ্ধকরণের মতো উত্পাদন প্রক্রিয়াগু......
আরও পড়ুন