CVD SiC ফোকাস রিং

উন্নত রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডি) প্রক্রিয়া

CVD SiC ফোকাস রিং তৈরিতে নিযুক্ত CVD প্রক্রিয়ার মধ্যে রয়েছে নির্দিষ্ট আকারে SiC-এর সুনির্দিষ্ট জমা, তারপরে কঠোর যান্ত্রিক প্রক্রিয়াকরণ। এই পদ্ধতিটি নিশ্চিত করে যে উপাদানটির প্রতিরোধ ক্ষমতা পরামিতিগুলি সামঞ্জস্যপূর্ণ, ব্যাপক পরীক্ষা-নিরীক্ষার পরে নির্ধারিত একটি নির্দিষ্ট উপাদান অনুপাতের জন্য ধন্যবাদ। ফলাফল অতুলনীয় বিশুদ্ধতা এবং অভিন্নতা সঙ্গে একটি ফোকাস রিং হয়.

সুপিরিয়র প্লাজমা রেজিস্ট্যান্স

CVD SiC ফোকাস রিং-এর সবচেয়ে আকর্ষক বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে একটি হল এর প্লাজমার ব্যতিক্রমী প্রতিরোধ। প্রদত্ত যে ফোকাস রিংগুলি ভ্যাকুয়াম প্রতিক্রিয়া চেম্বারের মধ্যে সরাসরি প্লাজমার সংস্পর্শে আসে, এই ধরনের কঠোর অবস্থা সহ্য করতে সক্ষম একটি উপাদানের প্রয়োজনীয়তা সর্বাধিক। SiC, 99.9995% এর বিশুদ্ধতা স্তরের সাথে, শুধুমাত্র সিলিকনের বৈদ্যুতিক পরিবাহিতাই শেয়ার করে না বরং আয়নিক এচিং-এর জন্য উচ্চতর প্রতিরোধের প্রস্তাব দেয়, এটি প্লাজমা এচিং সরঞ্জামের জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে।

উচ্চ ঘনত্ব এবং হ্রাস এচিং ভলিউম

সিলিকন (Si) ফোকাস রিংগুলির তুলনায়, CVD SiC ফোকাস রিং একটি উচ্চ ঘনত্বের গর্ব করে, যা উল্লেখযোগ্যভাবে এচিং ভলিউম হ্রাস করে৷ এই সম্পত্তি ফোকাস রিং এর জীবনকাল প্রসারিত এবং সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়ার অখণ্ডতা বজায় রাখার জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। কমে যাওয়া এচিং ভলিউম কম বাধা এবং কম রক্ষণাবেক্ষণ খরচে অনুবাদ করে, শেষ পর্যন্ত উত্পাদন দক্ষতা বৃদ্ধি করে।

প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ এবং চমৎকার নিরোধক

SiC-এর প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ চমৎকার নিরোধক বৈশিষ্ট্য প্রদান করে, যা এচিং প্রক্রিয়ায় হস্তক্ষেপ থেকে অবাঞ্ছিত বৈদ্যুতিক স্রোত প্রতিরোধে অপরিহার্য। এই বৈশিষ্ট্যটি নিশ্চিত করে যে ফোকাস রিংটি বর্ধিত সময়ের জন্য তার কার্যক্ষমতা বজায় রাখে, এমনকি সবচেয়ে চ্যালেঞ্জিং অবস্থার মধ্যেও।

তাপ পরিবাহিতা এবং তাপীয় শক প্রতিরোধ

CVD SiC ফোকাস রিংগুলি উচ্চ তাপ পরিবাহিতা এবং একটি কম সম্প্রসারণ সহগ প্রদর্শন করে, যা এগুলিকে তাপীয় শকের জন্য অত্যন্ত প্রতিরোধী করে তোলে। এই বৈশিষ্ট্যগুলি দ্রুত তাপ প্রক্রিয়াকরণ (RTP) জড়িত অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে বিশেষভাবে উপকারী, যেখানে ফোকাস রিংকে অবশ্যই তীব্র তাপ স্পন্দন সহ্য করতে হবে এবং দ্রুত শীতল হওয়ার পরে। এই ধরনের পরিস্থিতিতে স্থিতিশীল থাকার জন্য CVD SiC ফোকাস রিং-এর ক্ষমতা আধুনিক সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে এটিকে অপরিহার্য করে তোলে।

যান্ত্রিক শক্তি এবং স্থায়িত্ব

CVD SiC ফোকাস রিং-এর উচ্চ স্থিতিস্থাপকতা এবং কঠোরতা যান্ত্রিক প্রভাব, পরিধান এবং ক্ষয়ের জন্য চমৎকার প্রতিরোধ প্রদান করে। এই বৈশিষ্ট্যগুলি নিশ্চিত করে যে ফোকাস রিং সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশনের কঠোর চাহিদা সহ্য করতে পারে, সময়ের সাথে এর কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং কার্যকারিতা বজায় রাখে।

বিভিন্ন শিল্প জুড়ে আবেদন

1. সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং

অর্ধপরিবাহী উৎপাদনের ক্ষেত্রে, CVD SiC ফোকাস রিং হল প্লাজমা এচিং সরঞ্জামের একটি অপরিহার্য উপাদান, বিশেষ করে যারা ক্যাপাসিটিভ কাপলড প্লাজমা (সিসিপি) সিস্টেম ব্যবহার করে। এই সিস্টেমগুলিতে প্রয়োজনীয় উচ্চ রক্তরস শক্তি CVD SiC ফোকাস রিং-এর প্লাজমা প্রতিরোধ এবং স্থায়িত্বকে অমূল্য করে তোলে। উপরন্তু, এর চমৎকার তাপীয় বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে RTP অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত করে তোলে, যেখানে দ্রুত গরম এবং শীতল চক্র সাধারণ।

2. LED ওয়েফার ক্যারিয়ার

CVD SiC ফোকাস রিং LED ওয়েফার ক্যারিয়ার তৈরিতেও অত্যন্ত কার্যকর। উপাদানের তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং রাসায়নিক ক্ষয়ের প্রতিরোধ নিশ্চিত করে যে ফোকাস রিং এলইডি তৈরির সময় উপস্থিত কঠোর পরিস্থিতি সহ্য করতে পারে। এই নির্ভরযোগ্যতা উচ্চ ফলন এবং ভাল মানের LED ওয়েফারে অনুবাদ করে।

3. স্পুটারিং টার্গেট

স্পুটারিং অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে, CVD SiC ফোকাস রিং-এর উচ্চ কঠোরতা এবং পরিধানের প্রতিরোধের কারণে এটিকে স্পুটারিং লক্ষ্যগুলির জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে। উচ্চ-শক্তির প্রভাবের অধীনে তার কাঠামোগত অখণ্ডতা বজায় রাখার জন্য ফোকাস রিং-এর ক্ষমতা সামঞ্জস্যপূর্ণ এবং নির্ভরযোগ্য স্পুটারিং কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে, যা পাতলা ফিল্ম এবং আবরণ তৈরিতে গুরুত্বপূর্ণ।