CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড

ওয়েফারগুলিতে উপকরণের এচিং এবং রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এর জন্য একটি প্লাজমা যন্ত্রপাতিতে, প্রক্রিয়া গ্যাসগুলি একটি CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেডের মাধ্যমে একটি প্রক্রিয়া চেম্বারে সরবরাহ করা হয়। Semicorex প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে মানসম্পন্ন পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ, আমরা চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার জন্য উন্মুখ।

অনুসন্ধান পাঠান

পণ্যের বর্ণনা

Semicorex CVD SiC (রাসায়নিক বাষ্প জমা সিলিকন কার্বাইড) প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড একটি বিশেষ উপাদান যা বিভিন্ন শিল্প প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত হয়, যেমন রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এবং প্লাজমা-বর্ধিত রাসায়নিক বাষ্প জমা (PECVD)। এই জমার প্রক্রিয়া চলাকালীন একটি সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে পূর্ববর্তী গ্যাস বা প্রতিক্রিয়াশীল প্রজাতি সরবরাহ করার ক্ষেত্রে এটি একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।

CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড উচ্চ বিশুদ্ধ গ্রাফাইট দিয়ে তৈরি এবং CVD পদ্ধতিতে একটি SiC পাতলা স্তর দিয়ে প্রলিপ্ত। CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড গ্রাফাইট এবং SiC এর উপকারী বৈশিষ্ট্যগুলিকে একত্রিত করে, এটিকে বিভিন্ন জমা প্রক্রিয়ায় একটি অপরিহার্য উপাদান করে তোলে যেখানে উচ্চ তাপমাত্রা এবং রাসায়নিক পরিবেশের প্রতিরোধের সাথে সাথে সুনির্দিষ্ট এবং অভিন্ন গ্যাস বিতরণ প্রয়োজন।

বৈশিষ্ট্য:

রাসায়নিক প্রতিরোধের

তাপ - মাত্রা সহনশীল

মসৃণ এবং অভিন্ন পৃষ্ঠ

দূষণ হ্রাস