SiC কোট সহ CVD শাওয়ার হেড

উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট থেকে নির্মিত এবং CVD পদ্ধতির মাধ্যমে একটি পাতলা SiC স্তরে আবৃত, SiC কোট সহ CVD শাওয়ার হেড গ্রাফাইট এবং SiC উভয়ের সুবিধাজনক বৈশিষ্ট্যকে বিয়ে করে। এই সমন্বয়ের ফলে এমন একটি উপাদান তৈরি হয় যা কেবলমাত্র গ্যাসের সামঞ্জস্যপূর্ণ এবং সঠিক বন্টন নিশ্চিত করতেই নয় বরং তাপ ও ​​রাসায়নিক কঠোরতার বিরুদ্ধেও অসাধারণ স্থিতিস্থাপকতাকে গর্বিত করে যা জমার পরিবেশে প্রায়ই সম্মুখীন হয়।

SiC কোট সহ CVD শাওয়ার হেডের কার্যকারিতার চাবিকাঠি হল সাবস্ট্রেটের উপরিভাগ জুড়ে অগ্রদূত গ্যাসগুলিকে সমানভাবে বিচ্ছুরণে এর পারদর্শিতা, একটি কাজ যা সাবস্ট্রেটের উপরে এর কৌশলগত অবস্থান এবং এর পৃষ্ঠকে বিরামযুক্ত ছোট গর্ত বা অগ্রভাগের সূক্ষ্ম নকশা দ্বারা অর্জিত হয়েছে। এই অভিন্ন বন্টন সামঞ্জস্যপূর্ণ জমার ফলাফল অর্জনের জন্য গুরুত্বপূর্ণ।

SiC কোটের সাথে CVD শাওয়ার হেডের জন্য আবরণ উপাদান হিসাবে SiC-এর পছন্দ নির্বিচারে নয় বরং এটির উচ্চতর তাপ পরিবাহিতা এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতার দ্বারা অবহিত। এই বৈশিষ্ট্যগুলি জমা করার প্রক্রিয়া চলাকালীন তাপ সঞ্চয় প্রশমিত করার জন্য এবং সাবস্ট্রেট জুড়ে একটি সমান তাপমাত্রা বজায় রাখার জন্য প্রয়োজনীয়, ক্ষয়কারী গ্যাস এবং CVD প্রক্রিয়াগুলিকে টাইপ করে এমন কঠোর অবস্থার বিরুদ্ধে একটি শক্তিশালী প্রতিরক্ষা প্রদানের পাশাপাশি।

বিভিন্ন CVD সিস্টেমের নির্দিষ্ট চাহিদা এবং প্রক্রিয়ার প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য তৈরি করা হয়েছে, SiC কোট সহ CVD শাওয়ার হেডের ডিজাইনে একটি প্লেট বা ডিস্কের আকৃতি রয়েছে যা গর্ত বা স্লটগুলির একটি সতর্কতার সাথে গণনা করা অ্যারে দিয়ে সাজানো হয়েছে। SiC Coat-এর ডিজাইনের সাথে CVD শাওয়ার হেড শুধুমাত্র অভিন্ন গ্যাস বন্টনই নিশ্চিত করে না বরং জমা করার প্রক্রিয়ার জন্য প্রয়োজনীয় সর্বোত্তম প্রবাহ হারও নিশ্চিত করে, যা উপাদান জমা করার প্রক্রিয়ায় নির্ভুলতা এবং অভিন্নতা অর্জনের ক্ষেত্রে একটি লিঞ্চপিন হিসাবে উপাদানটির ভূমিকাকে তুলে ধরে।