সেমিকোরেক্স বাল্ক সিসি রিং সেমিকন্ডাক্টর এচিং প্রক্রিয়ার একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান, বিশেষভাবে উন্নত সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন সরঞ্জামের মধ্যে একটি এচিং রিং হিসাবে ব্যবহারের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে উচ্চ-মানের পণ্য সরবরাহ করার জন্য আমাদের অবিচল প্রতিশ্রুতি সহ, আমরা চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হতে প্রস্তুত।*
সেমিকোরেক্স বাল্ক SiC রিং রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) সিলিকন কার্বাইড (SiC) থেকে তৈরি করা হয়েছে, এটি একটি উপাদান যা এর ব্যতিক্রমী যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য, রাসায়নিক স্থিতিশীলতা এবং তাপ পরিবাহিতা জন্য বিখ্যাত, এটি সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশনের কঠোর পরিবেশের জন্য আদর্শ রেন্ডার করে।
সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে, এচিং হল ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট (ICs) উৎপাদনের একটি গুরুত্বপূর্ণ পদক্ষেপ, যা প্রয়োজন নির্ভুলতা এবং বস্তুগত অখণ্ডতা। বাল্ক SiC রিং একটি স্থিতিশীল, টেকসই, এবং রাসায়নিকভাবে নিষ্ক্রিয় বাধা প্রদান করে এই প্রক্রিয়ায় একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা গ্রহণ করে যা এচিং প্রক্রিয়াটিকে শক্তিশালী করে। এর প্রাথমিক কাজ হল সুসংগত প্লাজমা বিতরণ এবং অন্যান্য উপাদানগুলিকে অবাঞ্ছিত উপাদান জমা এবং দূষণ থেকে রক্ষা করে ওয়েফার পৃষ্ঠের অভিন্ন এচিং নিশ্চিত করা।
CVD SiC-এর সবচেয়ে উল্লেখযোগ্য বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে একটি, যা বাল্ক SiC রিং-এ মোতায়েন করা হয়েছে, হল এর উচ্চতর উপাদান বৈশিষ্ট্য। CVD SiC একটি অত্যন্ত বিশুদ্ধ, পলিক্রিস্টালাইন উপাদান, যা প্লাজমা এচিং পরিবেশে প্রচলিত রাসায়নিক ক্ষয় এবং উচ্চ তাপমাত্রার ব্যতিক্রমী প্রতিরোধের প্রস্তাব দেয়। রাসায়নিক বাষ্প জমার পদ্ধতি উপাদানের মাইক্রোস্ট্রাকচারের উপর কঠোর নিয়ন্ত্রণের অনুমতি দেয়, একটি অত্যন্ত ঘন এবং সমজাতীয় SiC স্তর তৈরি করে। এই নিয়ন্ত্রিত জমা পদ্ধতিটি নিশ্চিত করে যে বাল্ক SiC রিং চ্যালেঞ্জিং পরিস্থিতিতে দীর্ঘায়িত ব্যবহারের অধীনে এটির কার্যকারিতা বজায় রাখার জন্য একটি অভিন্ন এবং শক্তিশালী কাঠামোর গর্ব করে।
CVD SiC-এর তাপ পরিবাহিতা হল আরেকটি গুরুত্বপূর্ণ ফ্যাক্টর যা সেমিকন্ডাক্টর এচিংয়ে বাল্ক SiC রিং-এর কর্মক্ষমতা বৃদ্ধি করে। এচিং প্রক্রিয়াগুলি প্রায়শই উচ্চ-তাপমাত্রার প্লাজমা এবং সিসি রিং এর দক্ষতার সাথে তাপ অপসারণে পারদর্শীতা এচিং প্রক্রিয়ার স্থায়িত্ব এবং নির্ভুলতা বজায় রাখতে সহায়তা করে। এই তাপ ব্যবস্থাপনা ক্ষমতা শুধুমাত্র SiC রিং এর জীবনকাল প্রসারিত করে না বরং সামগ্রিক প্রক্রিয়ার নির্ভরযোগ্যতা এবং থ্রুপুট উন্নত করতেও অবদান রাখে।
এর তাপীয় বৈশিষ্ট্য ছাড়াও, বাল্ক SiC রিং এর যান্ত্রিক শক্তি এবং কঠোরতা অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে এর ভূমিকার জন্য গুরুত্বপূর্ণ। CVD SiC উচ্চ যান্ত্রিক শক্তি প্রদর্শন করে, উচ্চ ভ্যাকুয়াম পরিবেশ এবং প্লাজমা কণার প্রভাব সহ এচিং প্রক্রিয়ার শারীরিক চাপ সহ্য করতে রিংটিকে সক্ষম করে। উপাদানের কঠোরতাও পরিধান এবং ক্ষয় প্রতিরোধের ব্যতিক্রমী ক্ষমতা প্রদান করে, দীর্ঘায়িত ব্যবহারের পরেও রিংটি তার মাত্রিক অখণ্ডতা এবং কর্মক্ষমতা বৈশিষ্ট্য বজায় রাখে।
সিভিডি সিলিকন কার্বাইড থেকে তৈরি সেমিকোরেক্স বাল্ক সিআইসি রিং সেমিকন্ডাক্টর এচিং প্রক্রিয়ার একটি অপরিহার্য উপাদান হিসেবে দাঁড়িয়েছে। এর ব্যতিক্রমী গুণাবলী, উচ্চ তাপ পরিবাহিতা, যান্ত্রিক শক্তি, রাসায়নিক জড়তা এবং পরিধান এবং ক্ষয় প্রতিরোধের অন্তর্ভুক্ত, এটি প্লাজমা এচিং এর চাহিদাপূর্ণ অবস্থার জন্য আদর্শভাবে উপযোগী করে তোলে। একটি স্থিতিশীল এবং নির্ভরযোগ্য বাধা প্রদান করে যা ইউনিফর্ম এচিংকে সমর্থন করে এবং অন্যান্য উপাদানকে দূষণ থেকে রক্ষা করে, বাল্ক SiC রিং আধুনিক ইলেকট্রনিক্স উত্পাদনে নির্ভুলতা এবং গুণমানের অপরিহার্যতা নিশ্চিত করে অত্যাধুনিক সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির উত্পাদনে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।