SiC ICP এচিং প্লেট

Semicorex SiC ICP Etching Plate ব্যতিক্রমী তাপ পরিবাহিতা, উচ্চতর কঠোরতা এবং অসাধারণ রাসায়নিক স্থিতিশীলতা প্রদান করে শিল্পের চাহিদা পূরণ করে, এটি উন্নত সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের জন্য একটি পছন্দের পছন্দ করে তোলে।

সিলিকন কার্বাইড তার অসাধারণ তাপ পরিবাহিতা, অর্ধপরিবাহী উত্পাদনের একটি গুরুত্বপূর্ণ বৈশিষ্ট্যের জন্য বিখ্যাত। এই বৈশিষ্ট্যটি SiC ICP এচিং প্লেটকে এচিং প্রক্রিয়া চলাকালীন উৎপন্ন তাপকে দক্ষতার সাথে অপসারণ করতে দেয়, সর্বোত্তম অপারেটিং তাপমাত্রা বজায় রাখে। কার্যকরভাবে তাপ পরিচালনা করে, SiC ICP এচিং প্লেট অতিরিক্ত গরম হওয়ার ঝুঁকি কমিয়ে দেয়, এমনকি উচ্চ-শক্তি প্রয়োগের ক্ষেত্রেও সামঞ্জস্যপূর্ণ কর্মক্ষমতা এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে। এচিং প্রক্রিয়ার অখণ্ডতা বজায় রাখতে এবং উচ্চ-মানের ফলাফল অর্জনের জন্য এই তাপ ব্যবস্থাপনা অপরিহার্য।

SiC ICP এচিং প্লেটের আরেকটি স্ট্যান্ডআউট বৈশিষ্ট্য হল এর উচ্চতর কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা। উপলব্ধ কঠিনতম উপকরণগুলির মধ্যে একটি হিসাবে, সিলিকন কার্বাইড ঘর্ষণ এবং যান্ত্রিক পরিধানের ব্যতিক্রমী প্রতিরোধ প্রদর্শন করে। এই বৈশিষ্ট্যটি প্লাজমা এচিং পরিবেশে বিশেষভাবে মূল্যবান, যেখানে এচিং প্লেট আক্রমণাত্মক রাসায়নিক এবং শারীরিক অবস্থার সংস্পর্শে আসে। এসআইসি আইসিপি এচিং প্লেটের স্থায়িত্ব একটি দীর্ঘ পরিষেবা জীবন, কম ডাউনটাইম এবং কম রক্ষণাবেক্ষণ খরচে অনুবাদ করে, এটি উচ্চ-ভলিউম উত্পাদনের জন্য একটি ব্যয়-কার্যকর সমাধান করে তোলে।

এর তাপীয় এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য ছাড়াও, SiC ICP এচিং প্লেট চমৎকার রাসায়নিক স্থিতিশীলতা প্রদান করে। সিলিকন কার্বাইড ক্ষয় এবং রাসায়নিক আক্রমণের জন্য অত্যন্ত প্রতিরোধী, এটি নিশ্চিত করে যে এটি কঠোর রাসায়নিক পরিবেশেও এর কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং কর্মক্ষমতা বজায় রাখে। এচিং প্রক্রিয়ার নির্ভুলতা এবং নির্ভুলতা বজায় রাখার জন্য রাসায়নিক অবক্ষয়ের এই প্রতিরোধ অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, কারণ এচিং প্লেটের অখণ্ডতায় কোনো আপস তৈরি করা সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসে ত্রুটির কারণ হতে পারে।