MOCVD এর জন্য SiC আবরণ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ওয়েফার ক্যারিয়ার

আপনি আমাদের কারখানা থেকে MOCVD-এর জন্য SiC Coating Graphite Substrate Wafer Carriers কিনতে নিশ্চিন্ত থাকতে পারেন। Semicorex-এ, আমরা চীনে SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টরের একটি বড় মাপের প্রস্তুতকারক এবং সরবরাহকারী। আমাদের পণ্যের দামের একটি ভাল সুবিধা রয়েছে এবং এটি ইউরোপীয় এবং আমেরিকান বাজারের অনেকগুলি কভার করে৷ আমরা আমাদের গ্রাহকদের তাদের নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে এমন উচ্চ-মানের পণ্য সরবরাহ করার চেষ্টা করি। MOCVD-এর জন্য আমাদের SiC লেপ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ওয়েফার ক্যারিয়ার তাদের সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়ার জন্য উচ্চ-কার্যক্ষমতাসম্পন্ন ক্যারিয়ার খুঁজছেন তাদের জন্য একটি চমৎকার পছন্দ।

অনুসন্ধান পাঠান

পণ্যের বর্ণনা

MOCVD-এর জন্য SiC আবরণ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ওয়েফার ক্যারিয়ার সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াতে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। আমাদের পণ্যটি অত্যন্ত স্থিতিশীল, এমনকি চরম পরিবেশেও, এটি উচ্চ-মানের ওয়েফার উৎপাদনের জন্য একটি চমৎকার পছন্দ করে তোলে।
MOCVD-এর জন্য আমাদের SiC আবরণ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ওয়েফার ক্যারিয়ারের বৈশিষ্ট্যগুলি অসামান্য। এর ঘন পৃষ্ঠ এবং সূক্ষ্ম কণাগুলি এর ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা বাড়ায়, এটিকে অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারকদের প্রতিরোধী করে তোলে। ক্যারিয়ারটি একটি সমান তাপীয় প্রোফাইল নিশ্চিত করে এবং সর্বোত্তম ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহের প্যাটার্নের গ্যারান্টি দেয়, যে কোনও দূষণ বা অমেধ্যকে ওয়েফারে ছড়িয়ে পড়তে বাধা দেয়।

MOCVD-এর জন্য SiC আবরণ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ওয়েফার ক্যারিয়ারের পরামিতি

CVD-SIC আবরণ প্রধান স্পেসিফিকেশন
SiC-CVD বৈশিষ্ট্য
ক্রিস্টাল স্ট্রাকচার	FCC β ফেজ
ঘনত্ব	g/cm ³	3.21
কঠোরতা	ভিকারস কঠোরতা	2500
শস্য আকার	μm	2~10
রাসায়নিক বিশুদ্ধতা	%	99.99995
তাপ ক্ষমতা	J kg-1 K-1	640
পরমানন্দ তাপমাত্রা	℃	2700
ফেলেক্সুরাল স্ট্রেন্থ	MPa (RT 4-পয়েন্ট)	415
তরুণের মডুলাস	Gpa (4pt বাঁক, 1300℃)	430
তাপীয় সম্প্রসারণ (C.T.E)	10-6K-1	4.5
তাপ পরিবাহিতা	(W/mK)	300

MOCVD এর জন্য SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টরের বৈশিষ্ট্য

- খোসা ছাড়ানো এড়িয়ে চলুন এবং সমস্ত পৃষ্ঠে আবরণ নিশ্চিত করুন
উচ্চ তাপমাত্রা অক্সিডেশন প্রতিরোধের: 1600 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীল
উচ্চ বিশুদ্ধতা: উচ্চ তাপমাত্রা ক্লোরিনেশন অবস্থার অধীনে CVD রাসায়নিক বাষ্প জমা দ্বারা তৈরি।
জারা প্রতিরোধের: উচ্চ কঠোরতা, ঘন পৃষ্ঠ এবং সূক্ষ্ম কণা।
জারা প্রতিরোধের: অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারক।
- সেরা ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহ প্যাটার্ন অর্জন করুন
- তাপীয় প্রোফাইলের সমতা গ্যারান্টি
- কোন দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার প্রতিরোধ