MOCVD এর জন্য সিলিকন কার্বাইড লেপ গ্রাফাইট সাসেপ্টর

MOCVD-এর জন্য আমাদের সিলিকন কার্বাইড লেপ গ্রাফাইট সাসেপ্টরের বেশ কয়েকটি মূল বৈশিষ্ট্য রয়েছে যা এটিকে প্রতিযোগিতা থেকে আলাদা করে তোলে। এটি সমস্ত পৃষ্ঠের উপর আবরণ নিশ্চিত করে, খোসা ছাড়িয়ে যাওয়া এড়িয়ে যায় এবং উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধ ক্ষমতা রাখে, এমনকি 1600°C পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায়ও স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করে। পণ্যটি উচ্চ-তাপমাত্রার ক্লোরিনেশন অবস্থার অধীনে সিভিডি রাসায়নিক বাষ্প জমার মাধ্যমে উচ্চ বিশুদ্ধতার সাথে তৈরি করা হয়। এটি সূক্ষ্ম কণা সহ একটি ঘন পৃষ্ঠ রয়েছে, যা এটিকে অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারক থেকে ক্ষয় প্রতিরোধী করে তোলে।
MOCVD-এর জন্য আমাদের সিলিকন কার্বাইড আবরণ গ্রাফাইট সাসেপ্টর সর্বোত্তম ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহ প্যাটার্ন অর্জনের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, তাপীয় প্রোফাইলের সমানতা নিশ্চিত করে। এটি ওয়েফার চিপে উচ্চ-মানের এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি নিশ্চিত করে যে কোনও দূষণ বা অমেধ্য বিস্তারকে বাধা দেয়।

MOCVD-এর জন্য সিলিকন কার্বাইড লেপ গ্রাফাইট সাসেপ্টরের পরামিতি

MOCVD-এর জন্য সিলিকন কার্বাইড লেপ গ্রাফাইট সাসেপ্টরের বৈশিষ্ট্য

- খোসা ছাড়ানো এড়িয়ে চলুন এবং সমস্ত পৃষ্ঠে আবরণ নিশ্চিত করুন
উচ্চ তাপমাত্রা অক্সিডেশন প্রতিরোধের: 1600 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীল
উচ্চ বিশুদ্ধতা: উচ্চ তাপমাত্রা ক্লোরিনেশন অবস্থার অধীনে CVD রাসায়নিক বাষ্প জমা দ্বারা তৈরি।
জারা প্রতিরোধের: উচ্চ কঠোরতা, ঘন পৃষ্ঠ এবং সূক্ষ্ম কণা।
জারা প্রতিরোধের: অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারক।
- সেরা ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহ প্যাটার্ন অর্জন করুন
- তাপীয় প্রোফাইলের সমতা গ্যারান্টি
- কোন দূষণ বা অমেধ্য বিস্তার প্রতিরোধ