বাড়ি > খবর > শিল্প সংবাদ

থার্মাল অ্যানিলিং কি

2024-09-25

অ্যানিলিং প্রক্রিয়া, যা থার্মাল অ্যানিলিং নামেও পরিচিত, সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের একটি গুরুত্বপূর্ণ পদক্ষেপ। এটি উচ্চ তাপমাত্রায় সিলিকন ওয়েফারকে সাবজেক্ট করে উপকরণের বৈদ্যুতিক এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে উন্নত করে। অ্যানিলিংয়ের প্রাথমিক লক্ষ্যগুলি হল জালির ক্ষতি মেরামত করা, ডোপ্যান্ট সক্রিয় করা, ফিল্মের বৈশিষ্ট্যগুলি সংশোধন করা এবং ধাতব সিলিসাইড তৈরি করা। অ্যানিলিং প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত বেশ কয়েকটি সাধারণ সরঞ্জামের মধ্যে কাস্টমাইজড এসআইসি-কোটেড অংশগুলি অন্তর্ভুক্ত থাকে যেমনআন্ডারটেকার, কভার, ইত্যাদি সেমিকোরেক্স দ্বারা সরবরাহ করা হয়েছে।



অ্যানিলিং প্রক্রিয়ার মৌলিক নীতি


অ্যানিলিং প্রক্রিয়ার মৌলিক নীতি হল উপাদানের মধ্যে পরমাণুগুলিকে পুনর্বিন্যাস করার জন্য উচ্চ তাপমাত্রায় তাপ শক্তি ব্যবহার করা, যার ফলে নির্দিষ্ট শারীরিক এবং রাসায়নিক পরিবর্তনগুলি অর্জন করা। এটি প্রধানত নিম্নলিখিত দিকগুলি জড়িত:


1. জালি ক্ষতি মেরামত:

  - আয়ন ইমপ্লান্টেশন: আয়ন ইমপ্লান্টেশনের সময় উচ্চ-শক্তির আয়নগুলি সিলিকন ওয়েফারে বোমাবর্ষণ করে, যা জালির কাঠামোর ক্ষতি করে এবং একটি নিরাকার এলাকা তৈরি করে।

  - অ্যানিলিং মেরামত: উচ্চ তাপমাত্রায়, নিরাকার এলাকার মধ্যে পরমাণুগুলি জালির ক্রম পুনরুদ্ধার করার জন্য পুনর্বিন্যাস করা হয়। এই প্রক্রিয়াটির জন্য সাধারণত প্রায় 500 ডিগ্রি সেলসিয়াসের তাপমাত্রা পরিসীমা প্রয়োজন।


2. অপবিত্রতা সক্রিয়করণ:

  - ডোপান্ট মাইগ্রেশন: অ্যানিলিং প্রক্রিয়া চলাকালীন ইনজেকশনের অশুদ্ধতা পরমাণুগুলি ইন্টারস্টিশিয়াল সাইট থেকে জালির সাইটগুলিতে স্থানান্তরিত হয়, কার্যকরভাবে ডোপিং তৈরি করে।

  - সক্রিয়করণ তাপমাত্রা: অশুদ্ধতা সক্রিয়করণের জন্য সাধারণত উচ্চ তাপমাত্রার প্রয়োজন হয়, প্রায় 950 ডিগ্রি সেলসিয়াস। উচ্চ তাপমাত্রা অপরিচ্ছন্নতার বৃহত্তর অ্যাক্টিভেশন হারের দিকে পরিচালিত করে, কিন্তু অত্যধিক উচ্চ তাপমাত্রা অতিরিক্ত অপরিচ্ছন্নতা ছড়িয়ে দিতে পারে, যা ডিভাইসের কার্যকারিতাকে প্রভাবিত করে।


3. চলচ্চিত্র পরিবর্তন:

  - ঘনীকরণ: অ্যানিলিং আলগা ফিল্মগুলিকে ঘনীভূত করতে পারে এবং শুকনো বা ভেজা এচিংয়ের সময় তাদের বৈশিষ্ট্যগুলিকে পরিবর্তন করতে পারে।

  - হাই-কে গেট ডাইলেক্ট্রিকস: হাই-কে গেট ডাইলেক্ট্রিকের বৃদ্ধির পরে পোস্ট ডিপোজিশন অ্যানিলিং (পিডিএ) ডাইলেট্রিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে উন্নত করতে পারে, গেট লিকেজ কারেন্ট কমাতে পারে এবং ডাইলেক্ট্রিক ধ্রুবক বৃদ্ধি করতে পারে।


4. ধাতব সিলিসাইড গঠন:

  - অ্যালয় ফেজ: মেটাল ফিল্ম (যেমন, কোবাল্ট, নিকেল এবং টাইটানিয়াম) সিলিকনের সাথে বিক্রিয়া করে খাদ তৈরি করে। বিভিন্ন অ্যানিলিং তাপমাত্রার অবস্থা বিভিন্ন খাদ পর্যায়গুলির গঠনের দিকে পরিচালিত করে।

  - পারফরম্যান্স অপ্টিমাইজেশান: অ্যানিলিং তাপমাত্রা এবং সময় নিয়ন্ত্রণ করে, কম যোগাযোগ প্রতিরোধের এবং শরীরের প্রতিরোধের সাথে খাদ পর্যায়গুলি অর্জন করা যেতে পারে।


বিভিন্ন ধরনের অ্যানিলিং প্রক্রিয়া


1. উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লি অ্যানিলিং:


বৈশিষ্ট্য: উচ্চ তাপমাত্রা (সাধারণত 1000°C এর বেশি) এবং দীর্ঘ অ্যানিলিং সময় (কয়েক ঘন্টা) সহ ঐতিহ্যবাহী অ্যানিলিং পদ্ধতি।

অ্যাপ্লিকেশন: উচ্চ তাপীয় বাজেটের প্রয়োজন হয় এমন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত, যেমন SOI সাবস্ট্রেট প্রস্তুতি এবং গভীর এন-ওয়েল ডিফিউশন।


2. দ্রুত থার্মাল অ্যানিলিং (আরটিএ):

বৈশিষ্ট্য: দ্রুত গরম এবং শীতল করার বৈশিষ্ট্যগুলির সুবিধা গ্রহণ করে, অ্যানিলিং অল্প সময়ের মধ্যে সম্পন্ন করা যেতে পারে, সাধারণত প্রায় 1000°C তাপমাত্রায় এবং সেকেন্ডের সময়।

প্রয়োগ: অতি-অগভীর জংশন গঠনের জন্য বিশেষভাবে উপযুক্ত, এটি কার্যকরভাবে অমেধ্যের অত্যধিক বিস্তার কমাতে পারে এবং এটি উন্নত নোড উত্পাদনের একটি অপরিহার্য অংশ।



3. ফ্ল্যাশ ল্যাম্প অ্যানিলিং (FLA):

বৈশিষ্ট্য: দ্রুত অ্যানিলিং অর্জন করতে খুব অল্প সময়ের মধ্যে (মিলিসেকেন্ড) সিলিকন ওয়েফারের পৃষ্ঠকে গরম করতে উচ্চ-তীব্রতার ফ্ল্যাশ ল্যাম্প ব্যবহার করুন।

অ্যাপ্লিকেশন: 20nm এর নিচে লাইন প্রস্থের সাথে অতি-অগভীর ডোপিং অ্যাক্টিভেশনের জন্য উপযুক্ত, যা উচ্চ অপবিত্রতা অ্যাক্টিভেশন রেট বজায় রাখার সময় অপবিত্রতা ছড়িয়ে পড়তে পারে।



4. লেজার স্পাইক অ্যানিলিং (LSA):

বৈশিষ্ট্য: স্থানীয়করণ এবং উচ্চ-নির্ভুল অ্যানিলিং অর্জন করতে খুব অল্প সময়ের মধ্যে (মাইক্রোসেকেন্ড) সিলিকন ওয়েফার পৃষ্ঠকে গরম করতে লেজার আলোর উত্স ব্যবহার করুন।

অ্যাপ্লিকেশন: বিশেষত উন্নত প্রক্রিয়া নোডগুলির জন্য উপযুক্ত যেগুলির জন্য উচ্চ-নির্ভুলতা নিয়ন্ত্রণের প্রয়োজন, যেমন ফিনএফইটি এবং উচ্চ-কে/মেটাল গেট (HKMG) ডিভাইস তৈরি করা।



সেমিকোরেক্স উচ্চ মানের অফার করেCVD SiC/TaC আবরণ অংশথার্মাল অ্যানিলিংয়ের জন্য। আপনার যদি কোন জিজ্ঞাসা থাকে বা অতিরিক্ত বিবরণ প্রয়োজন, আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে দ্বিধা করবেন না দয়া করে.


যোগাযোগের ফোন # +86-13567891907

ইমেইল: sales@semicorex.com


X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept