ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেস সিস্টেম কি?

একটি একক ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেস হল একটি অত্যন্ত বিশেষায়িত সরঞ্জাম যা পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন উপাদান থেকে স্থানচ্যুতি-মুক্ত একক স্ফটিক তৈরির জন্য ব্যবহৃত হয়। একটি আর্গন গ্যাস পরিবেশে, চুল্লিটি পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন গলানোর জন্য একটি গ্রাফাইট হিটিং সিস্টেম ব্যবহার করে এবং Czochralski পদ্ধতি ব্যবহার করে মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন বৃদ্ধি করে। চুল্লিটি ছয়টি মূল সিস্টেমের সমন্বয়ে গঠিত যা দক্ষ এবং উচ্চ-মানের স্ফটিক বৃদ্ধি নিশ্চিত করতে সামঞ্জস্যপূর্ণ কাজ করে। এই সিস্টেমগুলির মধ্যে যান্ত্রিক ট্রান্সমিশন সিস্টেম, গরম করার তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা, ভ্যাকুয়াম সিস্টেম, আর্গন গ্যাস সিস্টেম, ওয়াটার কুলিং সিস্টেম এবং বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা অন্তর্ভুক্ত রয়েছে।

মেকানিক্যাল ট্রান্সমিশন সিস্টেম

যান্ত্রিক ট্রান্সমিশন সিস্টেম একক ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেসের অপারেশনাল ক্ষমতার ভিত্তি তৈরি করে। এটি স্ফটিক এবং ক্রুসিবল উভয়ের গতিবিধি নিয়ন্ত্রণের জন্য দায়ী, যার মধ্যে বীজ স্ফটিক উত্তোলন এবং ঘোরানো এবং ক্রুসিবলের উল্লম্ব এবং ঘূর্ণনশীল অবস্থানগুলি সামঞ্জস্য করা সহ। এই পরামিতিগুলিকে নিয়ন্ত্রণে নির্ভুলতা ক্রিস্টাল বৃদ্ধির প্রতিটি পর্যায়ের সাফল্যের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যেমন বীজ বপন, ঘাড়, কাঁধ, সমান-ব্যাসের বৃদ্ধি এবং লেজ। এই পর্যায়ে বীজ স্ফটিকের অবস্থান, গতি এবং কোণের সঠিক নিয়ন্ত্রণ নিশ্চিত করে যে ক্রিস্টাল প্রয়োজনীয় প্রক্রিয়ার শর্ত অনুযায়ী বৃদ্ধি পায়। এই সিস্টেম ছাড়া, চুল্লি ত্রুটি-মুক্ত স্ফটিক উত্পাদন করার জন্য প্রয়োজনীয় সূক্ষ্ম সমন্বয় সম্পাদন করতে সক্ষম হবে না।

গরম করার তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা

চুল্লির কার্যকারিতার মূলে রয়েছে গরম করার তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা, যা পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন গলানোর জন্য প্রয়োজনীয় তাপ তৈরি করার জন্য এবং স্ফটিক বৃদ্ধির প্রক্রিয়া জুড়ে একটি স্থিতিশীল তাপমাত্রা বজায় রাখার জন্য দায়ী। এই সিস্টেমটি হিটার, তাপমাত্রা সেন্সর এবং একটি তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ ইউনিটের মতো উপাদান নিয়ে গঠিত। হিটার, প্রায়শই উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট থেকে তৈরি, বৈদ্যুতিক শক্তিকে তাপ শক্তিতে রূপান্তর করে তাপ উৎপন্ন করে। একবার সিলিকন উপাদান পছন্দসই তাপমাত্রায় পৌঁছে এবং গলে গেলে, তাপমাত্রা সেন্সরগুলি ক্রমাগত ওঠানামা নিরীক্ষণ করে। এই সেন্সরগুলি কন্ট্রোল ইউনিটে রিয়েল-টাইম ডেটা পাঠায়, যা চুল্লির মধ্যে একটি সুনির্দিষ্ট তাপমাত্রা বজায় রাখতে পাওয়ার আউটপুট সামঞ্জস্য করে। একটি স্থিতিশীল তাপমাত্রা বজায় রাখা গুরুত্বপূর্ণ, কারণ এমনকি সামান্য ওঠানামাও স্ফটিক ত্রুটি বা অনুপযুক্ত বৃদ্ধি হতে পারে।

ভ্যাকুয়াম সিস্টেম

স্ফটিক বৃদ্ধির সময় প্রয়োজনীয় আদর্শ নিম্ন-চাপ পরিবেশ তৈরি এবং বজায় রাখার জন্য ভ্যাকুয়াম সিস্টেম অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। এটি ভ্যাকুয়াম পাম্প ব্যবহার করে ফার্নেস চেম্বার থেকে বাতাস, অমেধ্য এবং অন্যান্য গ্যাস অপসারণ করে কাজ করে। এই প্রক্রিয়াটি নিশ্চিত করে যে চুল্লিটি সাধারণত 5 TOR এর নিচে চাপে কাজ করে, উচ্চ-তাপমাত্রা প্রক্রিয়া চলাকালীন সিলিকন উপাদানকে অক্সিডাইজ করা থেকে বাধা দেয়। উপরন্তু, ভ্যাকুয়াম পরিবেশ ক্রিস্টাল বৃদ্ধির সময় নির্গত যেকোন উদ্বায়ী অমেধ্য দূর করতে সাহায্য করে, যা ফলস্বরূপ মনোক্রিস্টালের বিশুদ্ধতা এবং সামগ্রিক গুণমানকে উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করতে পারে। ভ্যাকুয়াম সিস্টেম, তাই, শুধুমাত্র অবাঞ্ছিত প্রতিক্রিয়া থেকে সিলিকনকে রক্ষা করে না কিন্তু চুল্লির কার্যকারিতা এবং নির্ভরযোগ্যতাও বাড়ায়।

আর্গন গ্যাস সিস্টেম

আর্গন গ্যাস সিস্টেম দুটি প্রধান উদ্দেশ্য পরিবেশন করে: অক্সিডেশন থেকে সিলিকন উপাদান রক্ষা করা এবং চুল্লির অভ্যন্তরীণ চাপ বজায় রাখা। ভ্যাকুয়াম প্রক্রিয়ার পরে, উচ্চ-বিশুদ্ধতা আর্গন গ্যাস (6N বা তার উপরে বিশুদ্ধতা স্তর সহ) চেম্বারে প্রবর্তিত হয়। আর্গন, একটি নিষ্ক্রিয় গ্যাস হওয়ায়, একটি প্রতিরক্ষামূলক বাধা তৈরি করে যা অবশিষ্ট অক্সিজেন বা বাহ্যিক বায়ুকে গলিত সিলিকনের সাথে প্রতিক্রিয়া করতে বাধা দেয়। উপরন্তু, আর্গনের নিয়ন্ত্রিত প্রবর্তন অভ্যন্তরীণ চাপকে স্থিতিশীল করতে সাহায্য করে, স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য একটি অনুকূল পরিবেশ প্রদান করে। কিছু ক্ষেত্রে, আর্গন গ্যাসের প্রবাহ ক্রমবর্ধমান স্ফটিক থেকে অতিরিক্ত তাপ অপসারণ করতেও সহায়তা করে, তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ বাড়াতে শীতল এজেন্ট হিসাবে কাজ করে।

জল কুলিং সিস্টেম

ওয়াটার কুলিং সিস্টেমটি ফার্নেসের মধ্যে বিভিন্ন উচ্চ-তাপমাত্রার উপাদান যেমন হিটার, ক্রুসিবল এবং ইলেক্ট্রোড দ্বারা উত্পন্ন তাপ পরিচালনা করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। চুল্লিটি চালিত হওয়ার সাথে সাথে, এই উপাদানগুলি উল্লেখযোগ্য পরিমাণে তাপ উৎপন্ন করে, যা যদি নিয়ন্ত্রণ না করা হয় তবে ক্ষতি বা বিকৃতি ঘটাতে পারে। ওয়াটার কুলিং সিস্টেম অতিরিক্ত তাপ নষ্ট করতে এবং এই উপাদানগুলিকে নিরাপদ অপারেটিং তাপমাত্রা সীমার মধ্যে রাখতে চুল্লির মাধ্যমে শীতল জল সঞ্চালন করে। চুল্লির উপাদানগুলির জীবনকাল বাড়ানোর পাশাপাশি, কুলিং সিস্টেমটি চুল্লির মধ্যে তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণে সাহায্য করার জন্য একটি সহায়ক ভূমিকা পালন করে, যার ফলে সামগ্রিক তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ এবং নির্ভুলতা উন্নত হয়।

বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা

প্রায়শই একক স্ফটিক বৃদ্ধির চুল্লির "মস্তিষ্ক" হিসাবে উল্লেখ করা হয়, বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা অন্যান্য সমস্ত সিস্টেমের অপারেশন তত্ত্বাবধান করে। এই সিস্টেমটি তাপমাত্রা, চাপ এবং অবস্থান সেন্সর সহ বিভিন্ন সেন্সর থেকে ডেটা গ্রহণ করে এবং যান্ত্রিক ট্রান্সমিশন, গরম, ভ্যাকুয়াম, আর্গন গ্যাস এবং জল ঠান্ডা করার সিস্টেমে রিয়েল-টাইম সামঞ্জস্য করতে এই তথ্য ব্যবহার করে। উদাহরণস্বরূপ, বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা স্বয়ংক্রিয়ভাবে তাপমাত্রা রিডিংয়ের উপর ভিত্তি করে গরম করার শক্তি সামঞ্জস্য করতে পারে বা বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার বিভিন্ন পর্যায়ে স্ফটিক এবং ক্রুসিবলের গতি এবং ঘূর্ণন কোণ পরিবর্তন করতে পারে। অতিরিক্তভাবে, সিস্টেমটি ত্রুটি সনাক্তকরণ এবং অ্যালার্ম বৈশিষ্ট্যগুলির সাথে সজ্জিত, নিশ্চিত করে যে কোনও অনিয়ম অবিলম্বে চিহ্নিত করা হয় এবং নিরাপদ এবং দক্ষ অপারেশন বজায় রাখার জন্য সংশোধনমূলক পদক্ষেপ নেওয়া হয়।

উপসংহারে, একটি একক ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেসের ছয়টি প্রধান সিস্টেম ক্রিস্টাল বৃদ্ধির জটিল প্রক্রিয়াটিকে সহজতর করার জন্য একসাথে কাজ করে। প্রতিটি সিস্টেম উচ্চ-মানের একক স্ফটিক উত্পাদন করার জন্য প্রয়োজনীয় শর্তগুলি বজায় রাখতে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে, চুল্লিটি দক্ষতার সাথে এবং নিরাপদে কাজ করে তা নিশ্চিত করে। এটি তাপমাত্রা, চাপ বা যান্ত্রিক গতিবিধি নিয়ন্ত্রণ করা হোক না কেন, প্রতিটি সিস্টেম চুল্লির সামগ্রিক সাফল্যের জন্য অপরিহার্য।

---

সেমিকোরেক্স অফারউচ্চ মানের গ্রাফাইট অংশস্ফটিক বৃদ্ধি চুল্লি জন্য. আপনার যদি কোন জিজ্ঞাসা থাকে বা অতিরিক্ত বিবরণ প্রয়োজন, আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে দ্বিধা করবেন না দয়া করে.

যোগাযোগের ফোন # +86-13567891907

ইমেইল: sales@semicorex.com