সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য টেকসই ফোকাস রিং

অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণের জন্য সেমিকোরেক্স টেকসই ফোকাস রিংগুলি সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণে ব্যবহৃত প্লাজমা ইচ চেম্বারের চরম পরিবেশ সহ্য করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। আমাদের ফোকাস রিংগুলি একটি ঘন, পরিধান-প্রতিরোধী সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ সহ উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট দিয়ে তৈরি। SiC আবরণ উচ্চ জারা এবং তাপ প্রতিরোধের বৈশিষ্ট্য, সেইসাথে চমৎকার তাপ পরিবাহিতা আছে. আমরা আমাদের ফোকাস রিংগুলির পরিষেবা জীবন উন্নত করতে রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়া ব্যবহার করে গ্রাফাইটের উপর পাতলা স্তরে SiC প্রয়োগ করি।

অনুসন্ধান পাঠান

পণ্যের বর্ণনা

সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য আমাদের টেকসই ফোকাস রিংগুলি ওয়েফার প্রান্ত বা ঘেরের চারপাশে এচ অভিন্নতা উন্নত করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, দূষণকে কমিয়ে আনা এবং অনির্ধারিত রক্ষণাবেক্ষণ। দ্রুত থার্মাল অ্যানিলিং (আরটিএ), দ্রুত তাপ প্রক্রিয়াকরণ (আরটিপি) এবং কঠোর রাসায়নিক পরিষ্কারের জন্য তারা অত্যন্ত স্থিতিশীল।

সেমিকোরেক্সে, আমরা সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য উচ্চ-মানের, সাশ্রয়ী টেকসই ফোকাস রিং প্রদানের উপর ফোকাস করি, আমরা গ্রাহকের সন্তুষ্টিকে অগ্রাধিকার দিই এবং সাশ্রয়ী সমাধান প্রদান করি। আমরা আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার জন্য উন্মুখ, উচ্চ-মানের পণ্য এবং ব্যতিক্রমী গ্রাহক পরিষেবা সরবরাহ করার জন্য।

সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য আমাদের টেকসই ফোকাস রিং সম্পর্কে আরও জানতে আমাদের সাথে আজই যোগাযোগ করুন।

সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য টেকসই ফোকাস রিংয়ের পরামিতি

CVD-SIC আবরণ প্রধান স্পেসিফিকেশন
SiC-CVD বৈশিষ্ট্য
স্ফটিক গঠন	FCC Î² ফেজ
ঘনত্ব	g/cm ³	3.21
কঠোরতা	Vickers কঠোরতা	2500
দ্রব্যের আকার	Î¼m	2~10
রাসায়নিক বিশুদ্ধতা	%	99.99995
তাপ ধারনক্ষমতা	J·kg-1 ·K-1	640
পরমানন্দ তাপমাত্রা	℃	2700
ফেলেক্সুরাল স্ট্রেন্থ	MPa (RT 4-পয়েন্ট)	415
তরুণের মডুলাস	Gpa (4pt বাঁক, 1300â)	430
তাপীয় সম্প্রসারণ (C.T.E)	10-6K-1	4.5
তাপ পরিবাহিতা	(W/mK)	300