বাড়ি > পণ্য > সিলিকন কার্বাইড লেপা > ব্যারেল রিসিভার > ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন
পণ্য
ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন

ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন

সেমিকোরেক্স সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন ইন ব্যারেল রিঅ্যাক্টর ওয়েফার চিপগুলিতে এপিক্সিয়াল স্তরগুলি বৃদ্ধির জন্য একটি অত্যন্ত টেকসই এবং নির্ভরযোগ্য পণ্য। এর উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের এবং উচ্চ বিশুদ্ধতা এটিকে সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত করে তোলে। এর এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, লেমিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণ এবং দূষণ প্রতিরোধ এটিকে উচ্চ-মানের এপিক্সিয়াল স্তর বৃদ্ধির জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে।

অনুসন্ধান পাঠান

পণ্যের বর্ণনা

ব্যারেল চুল্লিতে আমাদের সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন একটি উচ্চ-পারফরম্যান্স পণ্য যা চরম পরিবেশে নির্ভরযোগ্য কর্মক্ষমতা প্রদানের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এর উচ্চতর আবরণ আনুগত্য, উচ্চ-তাপমাত্রার অক্সিডেশন প্রতিরোধের, এবং জারা প্রতিরোধের এটি কঠোর পরিবেশে ব্যবহারের জন্য একটি চমৎকার পছন্দ করে তোলে। উপরন্তু, এর এমনকি তাপীয় প্রোফাইল, ল্যামিনার গ্যাস প্রবাহের ধরণ এবং দূষণ প্রতিরোধ এপিক্সিয়াল স্তরের উচ্চ গুণমান নিশ্চিত করে।

Semicorex-এ, আমরা আমাদের গ্রাহকদের উচ্চ-মানের, সাশ্রয়ী পণ্য সরবরাহ করার উপর ফোকাস করি। ব্যারেল চুল্লিতে আমাদের সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশনের মূল্য সুবিধা রয়েছে এবং এটি অনেক ইউরোপীয় এবং আমেরিকান বাজারে রপ্তানি করা হয়। আমরা আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার লক্ষ্য রাখি, ধারাবাহিক মানের পণ্য এবং ব্যতিক্রমী গ্রাহক পরিষেবা সরবরাহ করা।


ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশনের পরামিতি

CVD-SIC আবরণ প্রধান স্পেসিফিকেশন

SiC-CVD বৈশিষ্ট্য

ক্রিস্টাল স্ট্রাকচার

FCC β ফেজ

ঘনত্ব

g/cm ³

3.21

কঠোরতা

ভিকারস কঠোরতা

2500

শস্য আকার

μm

2~10

রাসায়নিক বিশুদ্ধতা

%

99.99995

তাপ ক্ষমতা

J kg-1 K-1

640

পরমানন্দ তাপমাত্রা

2700

ফেলেক্সুরাল স্ট্রেন্থ

MPa (RT 4-পয়েন্ট)

415

তরুণের মডুলাস

Gpa (4pt বাঁক, 1300℃)

430

তাপীয় সম্প্রসারণ (C.T.E)

10-6K-1

4.5

তাপ পরিবাহিতা

(W/mK)

300


ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশনের বৈশিষ্ট্য

- গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট এবং সিলিকন কার্বাইড উভয় স্তরেরই ভাল ঘনত্ব রয়েছে এবং উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী কাজের পরিবেশে একটি ভাল প্রতিরক্ষামূলক ভূমিকা পালন করতে পারে।

- একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত সিলিকন কার্বাইড প্রলিপ্ত সাসেপ্টরের পৃষ্ঠের সমতলতা খুব বেশি।

- গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট এবং সিলিকন কার্বাইড স্তরের মধ্যে তাপীয় সম্প্রসারণ সহগের পার্থক্য হ্রাস করুন, ক্র্যাকিং এবং ডিলামিনেশন রোধ করতে কার্যকরভাবে বন্ধন শক্তি উন্নত করুন।

- গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট এবং সিলিকন কার্বাইড উভয় স্তরেরই উচ্চ তাপ পরিবাহিতা এবং চমৎকার তাপ বিতরণের বৈশিষ্ট্য রয়েছে।

- উচ্চ গলনাঙ্ক, উচ্চ তাপমাত্রা অক্সিডেশন প্রতিরোধের, জারা প্রতিরোধের।




হট ট্যাগ: ব্যারেল চুল্লিতে সিভিডি এপিটাক্সিয়াল ডিপোজিশন, চীন, নির্মাতারা, সরবরাহকারী, কারখানা, কাস্টমাইজড, বাল্ক, উন্নত, টেকসই
সম্পর্কিত বিভাগ
অনুসন্ধান পাঠান
নীচের ফর্মে আপনার তদন্ত দিতে নির্দ্বিধায় দয়া করে. আমরা আপনাকে 24 ঘন্টার মধ্যে উত্তর দেব।
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept