সেমিকোরেক্স ট্যানটালাম কার্বাইড ক্রুসিবল সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান, বিশেষভাবে সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। Semicorex প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে মানসম্পন্ন পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ, আমরা চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার অপেক্ষায় আছি*।
সেমিকোরেক্স ট্যানটালাম কার্বাইড ক্রুসিবলকে গ্রাফাইট থেকে খুব সূক্ষ্মভাবে তৈরি করা হয়, যা পরে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) দিয়ে প্রলেপ দেওয়া হয়, এটি একটি সংমিশ্রণ যা উচ্চ-তাপমাত্রা এবং রাসায়নিকভাবে চাহিদাপূর্ণ পরিবেশে SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধির ক্ষেত্রে উচ্চতর কর্মক্ষমতা প্রদান করে।
ট্যানটালাম কার্বাইড একটি অবাধ্য সিরামিক উপাদান যা তার ব্যতিক্রমী কঠোরতা, রাসায়নিক প্রতিরোধের এবং অত্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় কাঠামোগত অখণ্ডতা বজায় রাখার ক্ষমতার জন্য পরিচিত। গ্রাফাইট ক্রুসিবলকে TaC দিয়ে আবরণ করে, ট্যান্টালাম কার্বাইড ক্রুসিবল এই সুবিধাজনক বৈশিষ্ট্যগুলিকে উত্তরাধিকার সূত্রে প্রাপ্ত করে, যা উল্লেখযোগ্যভাবে এর কার্যকারিতা এবং জীবনকাল বৃদ্ধি করে। TaC আবরণ একটি প্রতিরক্ষামূলক বাধা হিসাবে কাজ করে, গ্রাফাইটকে বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার সময় উপস্থিত SiC উপাদান বা অন্যান্য গ্যাসের সাথে প্রতিক্রিয়া করতে বাধা দেয়। এটি নিশ্চিত করে যে ক্রুসিবল তার অখণ্ডতা বজায় রাখে এবং এমন কোনো দূষক প্রবর্তন করে না যা SiC স্ফটিকের গুণমানকে আপস করতে পারে।
ট্যানটালাম কার্বাইড ক্রুসিবলের SiC স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ তাপমাত্রায় কাজ করার ক্ষমতা রয়েছে। SiC স্ফটিকগুলি সাধারণত 2000°C এর বেশি তাপমাত্রায় জন্মায় এবং উচ্চ-মানের স্ফটিক তৈরির জন্য এই জাতীয় উচ্চ তাপমাত্রা ধারাবাহিকভাবে বজায় রাখা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। TaC-কোটেড গ্রাফাইট ক্রুসিবল বিকৃত বা অবনমিত না করে এই চরম অবস্থাকে সহ্য করতে পারে, স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার জন্য একটি স্থিতিশীল পরিবেশ প্রদান করে। অর্ধপরিবাহী অ্যাপ্লিকেশনের জন্য প্রয়োজনীয় স্ফটিক আকার, বিশুদ্ধতা এবং কাঠামোগত বৈশিষ্ট্যগুলি অর্জনের জন্য এই স্থিতিশীলতা অপরিহার্য।
ট্যানটালাম কার্বাইড ক্রুসিবলের শক্তিশালী রাসায়নিক প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে, যা এগুলিকে SiC স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য অপরিহার্য করে তোলে। বৃদ্ধি প্রক্রিয়া জুড়ে, SiC স্ফটিক গঠনে সহায়তা করার জন্য বিভিন্ন গ্যাস এবং প্রতিক্রিয়াশীল প্রজাতির প্রবর্তন করা হয়। এই পরিবেশগুলি অত্যন্ত ক্ষয়কারী হতে পারে, যা ক্রুসিবলের কাঠামোগত অখণ্ডতার জন্য একটি ঝুঁকি তৈরি করে। TaC আবরণ কার্যকরভাবে এই ক্ষয়কারী উপাদানগুলি থেকে গ্রাফাইটকে রক্ষা করে, প্রক্রিয়া চলাকালীন ক্রুসিবলটি অক্ষত এবং কার্যকরী থাকে তা নিশ্চিত করে। রাসায়নিক আক্রমণের এই প্রতিরোধ শুধুমাত্র ক্রুসিবলের জীবনকে দীর্ঘায়িত করে না বরং ক্রিস্টাল বৃদ্ধির অপারেশনের সামগ্রিক দক্ষতা এবং ব্যয়-কার্যকারিতাতেও অবদান রাখে।