সেমিকোরেক্স দ্বারা PBN সিরামিক ডিস্ক একটি জটিল রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়ার মাধ্যমে সংশ্লেষিত হয়, উচ্চ তাপমাত্রা এবং নিম্ন চাপে বোরন ট্রাইক্লোরাইড (BCl3) এবং অ্যামোনিয়া (NH3) ব্যবহার করে। সংশ্লেষণের এই পদ্ধতির ফলে ব্যতিক্রমী বিশুদ্ধতা এবং কাঠামোগত অখণ্ডতার উপাদান পাওয়া যায়, যা অর্ধপরিবাহী শিল্পের মধ্যে বিভিন্ন ধরনের অ্যাপ্লিকেশনের জন্য এটি অপরিহার্য করে তোলে।**
PBN সিরামিক ডিস্কের অন্যতম উল্লেখযোগ্য সুবিধা হল এর অসাধারণ উচ্চ বিশুদ্ধতা। সংশ্লেষণ প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত গ্যাসীয় পদার্থের বিশুদ্ধতা (BCl3 + NH3 -> BN + HCl) প্রচলিত বোরন নাইট্রাইড পাউডারের চেয়ে অনেক বেশি। ফলস্বরূপ, PBN সিরামিক ডিস্ক 99.99% বিশুদ্ধতা স্তর অর্জন করে, যেখানে মোট অমেধ্যের পরিমাণ প্রতি মিলিয়ন (পিপিএম) 100 অংশের কম। এই ব্যতিক্রমী বিশুদ্ধতা সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যেখানে এমনকি সামান্য দূষণ ইলেকট্রনিক উপাদানগুলিতে ত্রুটির কারণ হতে পারে। এই ধরনের উচ্চ বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করার মাধ্যমে, PBN সিরামিক ডিস্ক দূষণের ঝুঁকি কমিয়ে দেয়, যার ফলে সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির নির্ভরযোগ্যতা এবং কর্মক্ষমতা বৃদ্ধি পায়।
PBN সিরামিক ডিস্কের উৎপাদনে নিযুক্ত CVD প্রক্রিয়া এটিকে প্রায় নিখুঁত স্তরযুক্ত কাঠামো প্রদান করে। এই অনন্য কাঠামোটি অ্যানিসোট্রপিক তাপ পরিবাহিতাকে সহজতর করে, একটি সম্পত্তি যা চুল্লি এবং ভ্যাকুয়াম সিস্টেমে ব্যবহৃত উপাদানগুলির জন্য অত্যন্ত উপকারী। অ্যানিসোট্রপিক তাপ পরিবাহিতা PBN সিরামিক ডিস্ককে কার্যকরভাবে তাপ বিতরণ পরিচালনা করতে দেয়, ডিস্কের পৃষ্ঠ জুড়ে অভিন্ন তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ নিশ্চিত করে। এই ক্ষমতা সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে অপরিহার্য যেগুলির জন্য তাপীয় গ্রেডিয়েন্টগুলি প্রতিরোধ করার জন্য সুনির্দিষ্ট তাপ ব্যবস্থাপনা প্রয়োজন যা উপাদানগুলির ব্যর্থতা বা অদক্ষতা হতে পারে।
তাপ স্থিতিস্থাপকতার পরিপ্রেক্ষিতে, পিবিএন সিরামিক ডিস্ক একটি অনুকরণীয় উপাদান হিসাবে দাঁড়িয়েছে। এটি ভ্যাকুয়াম পরিবেশে 1800°C পর্যন্ত তাপমাত্রা এবং নাইট্রোজেনে 2000°C পর্যন্ত তাপমাত্রা সহ্য করতে পারে, কোনো গলনাঙ্ক প্রদর্শন না করেই। এই অসাধারণ তাপীয় স্থিতিশীলতা এটিকে চুল্লির উপাদান এবং গলে যাওয়া জাহাজের জন্য একটি আদর্শ পছন্দ করে তোলে, যেখানে চরম তাপমাত্রা অপারেশনের একটি নিয়মিত অংশ। এই ধরনের উচ্চ তাপমাত্রায় কাঠামোগত অখণ্ডতা বজায় রাখার ক্ষমতা দীর্ঘায়ু এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে, ঘন ঘন প্রতিস্থাপনের প্রয়োজনীয়তা হ্রাস করে এবং এইভাবে সামগ্রিক কর্মক্ষম খরচ কমায়।
রাসায়নিক জড়তা PBN সিরামিক ডিস্কের আরেকটি বৈশিষ্ট্য। এটি অ্যাসিড, ক্ষার, জৈব দ্রাবক, গলিত ধাতু এবং গ্রাফাইট সহ বিস্তৃত পদার্থের সাথে প্রতিক্রিয়া প্রতিরোধী। এই জড়তা অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে বিশেষভাবে সুবিধাজনক, যেখানে প্রতিক্রিয়াশীল পদার্থের এক্সপোজার সাধারণ। অ-প্রতিক্রিয়াশীল থাকার মাধ্যমে, PBN সিরামিক ডিস্ক অবাঞ্ছিত রাসায়নিক মিথস্ক্রিয়া এড়ায় যা সেমিকন্ডাক্টর উপাদানগুলির অখণ্ডতা এবং কার্যকারিতাকে আপস করতে পারে।
সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে পিবিএন সিরামিক ডিস্কের অ্যাপ্লিকেশনগুলি বৈচিত্র্যময় এবং প্রভাবশালী। এর বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে বিভিন্ন উচ্চ-তাপমাত্রা এবং উচ্চ-বিশুদ্ধতা পরিবেশে ব্যবহারের জন্য একটি আদর্শ উপাদান করে তোলে। এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির প্রক্রিয়াগুলিতে, উদাহরণস্বরূপ, ডিস্কটি ডিপোজিশন সিস্টেমে একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান হিসাবে কাজ করে, যেখানে এর বিশুদ্ধতা এবং তাপ পরিবাহিতা উচ্চ-মানের সেমিকন্ডাক্টর স্তরগুলির উত্পাদন নিশ্চিত করে। উপরন্তু, LEDs এবং অন্যান্য অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস তৈরিতে, PBN সিরামিক ডিস্ক একটি স্থিতিশীল এবং নির্ভরযোগ্য প্ল্যাটফর্ম প্রদান করে যা ডিভাইসের সর্বোত্তম কার্যক্ষমতা অর্জনের জন্য প্রয়োজনীয় জটিল প্রক্রিয়াগুলিকে সমর্থন করে।
অধিকন্তু, PBN সিরামিক ডিস্কের ভূমিকা পাওয়ার ইলেকট্রনিক ডিভাইস তৈরিতে প্রসারিত। এই ডিভাইসগুলি প্রায়শই উচ্চ তাপমাত্রায় কাজ করে এবং এমন উপাদানগুলির প্রয়োজন হয় যা এই জাতীয় পরিস্থিতিতে কার্যকারিতা বজায় রাখতে পারে। PBN সিরামিক ডিস্কের চমৎকার তাপীয় এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে পাওয়ার ইলেকট্রনিক সিস্টেমের মধ্যে সাবস্ট্রেট এবং অন্যান্য উপাদানগুলির জন্য একটি উপযুক্ত পছন্দ করে, যা এই ডিভাইসগুলির দক্ষতা এবং স্থায়িত্বে অবদান রাখে।
বোরন নাইট্রাইড স্ট্রাকচার