মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন বনাম পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন

একক ক্রিস্টাল সিলিকনএবং পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের প্রত্যেকটির নিজস্ব অনন্য সুবিধা এবং প্রযোজ্য পরিস্থিতি রয়েছে। একক ক্রিস্টাল সিলিকন তার চমৎকার বৈদ্যুতিক এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যের কারণে উচ্চ-কর্মক্ষমতা ইলেকট্রনিক পণ্য এবং মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্সের জন্য উপযুক্ত। পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন, অন্যদিকে, কম খরচে এবং ভাল ফটোইলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতার কারণে সৌর কোষের ক্ষেত্রে আধিপত্য বিস্তার করে।

একক ক্রিস্টাল সিলিকন

একক স্ফটিক সিলিকনের কাঠামোগত বৈশিষ্ট্য:একক ক্রিস্টাল সিলিকনএকটি অত্যন্ত আদেশযুক্ত স্ফটিক কাঠামো রয়েছে এবং সিলিকন পরমাণুগুলি হীরার জালি অনুসারে একটি অবিচ্ছিন্ন জালিতে সাজানো হয়। এই গঠন একক স্ফটিক সিলিকন চমৎকার ইলেক্ট্রন ট্রান্সমিশন কর্মক্ষমতা এবং photoelectric রূপান্তর দক্ষতা দেয়. একক স্ফটিক সিলিকনে, পারমাণবিক বিন্যাসের ধারাবাহিকতা ম্যাক্রোস্কোপিক স্কেলে শস্যের সীমানা অনুপস্থিতির দিকে পরিচালিত করে, যা সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির কার্যকারিতার জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।

এর উৎপাদন প্রক্রিয়াএকক স্ফটিক সিলিকন: একক ক্রিস্টাল সিলিকন উৎপাদন সাধারণত Czochralski প্রক্রিয়া বা ফ্লোট জোন প্রক্রিয়া দ্বারা সঞ্চালিত হয়। Czochralski প্রক্রিয়া একটি একক স্ফটিক গঠন করার জন্য একটি বীজ স্ফটিকের মাধ্যমে ধীরে ধীরে গলিত সিলিকন টেনে নেয়। ফ্লোট জোন প্রক্রিয়া হল স্থানীয় গলে যাওয়া এবং পুনঃক্রিস্টালাইজেশনের মাধ্যমে একক স্ফটিক সিলিকন প্রস্তুত করা। একক ক্রিস্টাল সিলিকনের গুণমান এবং কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করতে এই পদ্ধতিগুলির জন্য উচ্চ-নির্ভুলতা সরঞ্জাম এবং প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ প্রয়োজন।

মনোক্রিস্টালাইন সিলিকনউচ্চ ইলেক্ট্রন গতিশীলতা এবং পরিবাহিতা রয়েছে, তাই এটি ইলেকট্রনিক ডিভাইস এবং সমন্বিত সার্কিটে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। মনোক্রিস্টালাইন সিলিকনের ফটোইলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতাও বেশি, এটি সৌর কোষের জন্য একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান তৈরি করে।

মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন প্রধানত উচ্চ-সম্পদ সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস, ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, লেজার এবং উচ্চ কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা সহ অন্যান্য ক্ষেত্রে ব্যবহৃত হয়। এর চমৎকার বৈদ্যুতিন বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে উচ্চ-গতি এবং উচ্চ-নির্ভুলতা ইলেকট্রনিক সরঞ্জামের চাহিদা মেটাতে সক্ষম করে।

পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন

পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের কাঠামোগত বৈশিষ্ট্য: পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন অনেকগুলি ছোট স্ফটিক (শস্য) দ্বারা গঠিত এবং এই দানার স্ফটিক অভিযোজন এবং আকারে কিছু পার্থক্য রয়েছে। পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের জালিকাঠামো তুলনামূলকভাবে অগোছালো এবং একক-ক্রিস্টালাইন সিলিকনের মতো সুশৃঙ্খল নয়। এই সত্ত্বেও, পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন এখনও কিছু অ্যাপ্লিকেশনে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।

পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের উৎপাদন প্রক্রিয়া: পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন তৈরি করা তুলনামূলকভাবে সহজ। সিলিকন কাঁচামাল সাধারণত রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) বা সিমেন্স পদ্ধতিতে একটি সাবস্ট্রেটে জমা করে পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন পাতলা ফিল্ম বা বাল্ক উপাদান তৈরি করে। এই পদ্ধতিগুলির উৎপাদন খরচ কম এবং একক-ক্রিস্টালাইন সিলিকনের তুলনায় দ্রুত উৎপাদন প্রক্রিয়া রয়েছে।

এর পলিক্রিস্টালাইন কাঠামোর কারণে, পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্যগুলি একক-ক্রিস্টালাইন সিলিকনের তুলনায় সামান্য কম, প্রধানত কারণ বাহকগুলির বিক্ষিপ্ত কেন্দ্রগুলি শস্যের সীমানায় গঠিত হয়। পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের ফটোইলেক্ট্রিক রূপান্তর দক্ষতা সাধারণত একক-ক্রিস্টালাইন সিলিকনের তুলনায় কম, তবে এর খরচ সুবিধার কারণে, এটি সৌর কোষের ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়েছে।

পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন প্রধানত সৌর প্যানেল, ফটোভোলটাইক পাওয়ার জেনারেশন এবং অন্যান্য ক্ষেত্রে ব্যবহৃত হয়। যদিও এর কার্যকারিতা তুলনামূলকভাবে কম, তবে এর খরচের সুবিধা পলিসিলিকনকে বড় আকারের সৌরবিদ্যুৎ উৎপাদনের একটি গুরুত্বপূর্ণ অংশ করে তোলে।