SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধির জন্য ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট

বর্তমানে, বেশিরভাগ SiC সাবস্ট্রেট নির্মাতারা ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট সিলিন্ডার সহ একটি নতুন ক্রুসিবল থার্মাল ফিল্ড প্রসেস ডিজাইন ব্যবহার করে: গ্রাফাইট ক্রুসিবল প্রাচীর এবং ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট সিলিন্ডারের মধ্যে উচ্চ-বিশুদ্ধ SiC কণা কাঁচামাল স্থাপন করে, পুরো ক্রুসিবলকে গভীর করে এবং ক্রুসিবলের ব্যাস বাড়ায়। সুবিধা হল যে যখন চার্জিং ভলিউম বৃদ্ধি পায়, তখন কাঁচামালের বাষ্পীভবন এলাকাও বৃদ্ধি পায়। নতুন প্রক্রিয়াটি স্ফটিক ত্রুটিগুলির সমস্যা সমাধান করে, যা কাঁচামালের উপরের অংশের পুনঃক্রিস্টালাইজেশনের ফলে উৎস উপাদানের পৃষ্ঠে বৃদ্ধির সাথে সাথে পরমানন্দের উপাদান প্রবাহকে প্রভাবিত করে। নতুন প্রক্রিয়াটি ক্রিস্টাল বৃদ্ধির জন্য কাঁচামাল এলাকায় তাপমাত্রা বন্টনের সংবেদনশীলতা হ্রাস করে, ভর স্থানান্তর দক্ষতা উন্নত এবং স্থিতিশীল করে, বৃদ্ধির পরবর্তী পর্যায়ে কার্বন অন্তর্ভুক্তির প্রভাব হ্রাস করে এবং SiC স্ফটিকগুলির গুণমানকে আরও উন্নত করে। নতুন প্রক্রিয়াটি একটি বীজহীন স্ফটিক সমর্থন স্থিরকরণ পদ্ধতিও ব্যবহার করে যা বীজ স্ফটিকের সাথে লেগে থাকে না, বিনামূল্যে তাপীয় প্রসারণ এবং চাপ উপশমের জন্য সহায়ক। এই নতুন প্রক্রিয়াটি তাপীয় ক্ষেত্রটিকে অপ্টিমাইজ করে এবং ব্যাস সম্প্রসারণের দক্ষতাকে ব্যাপকভাবে উন্নত করে।

এই নতুন প্রক্রিয়া দ্বারা প্রাপ্ত SiC একক স্ফটিকগুলির গুণমান এবং ফলন ক্রুসিবল গ্রাফাইট এবং ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটের শারীরিক বৈশিষ্ট্যের উপর ব্যাপকভাবে নির্ভরশীল। উচ্চ-ক্ষমতাসম্পন্ন ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটের জরুরী চাহিদা শুধুমাত্র ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটকে অত্যন্ত ব্যয়বহুল করে তোলে না, তবে বাজারে একটি গুরুতর ঘাটতিও সৃষ্টি করে।

এর মৌলিক কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তাছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট

(1) উপযুক্ত ছিদ্র আকার বিতরণ;

(2) যথেষ্ট উচ্চ porosity;

(3) যান্ত্রিক শক্তি যা প্রক্রিয়াকরণ এবং ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।

সেমিকোরেক্স উচ্চ মানের অফার করেছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটঅংশ যদি আপনার কোন জিজ্ঞাসা থাকে বা অতিরিক্ত বিবরণ প্রয়োজন, আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে দ্বিধা করবেন না দয়া করে.

যোগাযোগের ফোন # +86-13567891907

ইমেইল: sales@semicorex.com