TaC আবরণ সহ Semicorex MOCVD সাসেপ্টর হল একটি অত্যাধুনিক উপাদান যা MOCVD সিস্টেমের মধ্যে সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সি প্রক্রিয়াগুলিতে সর্বোত্তম কর্মক্ষমতার জন্য অত্যন্ত যত্ন সহকারে তৈরি করা হয়েছে। সেমিকোরেক্স অত্যন্ত প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে উচ্চতর পণ্য সরবরাহ করার জন্য আমাদের প্রতিশ্রুতিতে অটল। আমরা চীনে আপনার সাথে একটি স্থায়ী অংশীদারিত্ব প্রতিষ্ঠা করতে আগ্রহী।*
TaC আবরণ সহ সেমিকোরেক্স MOCVD সাসেপ্টরটি যত্ন সহকারে নির্বাচিত গ্রাফাইট থেকে তৈরি, উচ্চ কার্যক্ষমতা এবং স্থায়িত্ব নিশ্চিত করার জন্য এর ব্যতিক্রমী বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য বেছে নেওয়া হয়েছে। গ্রাফাইট তার চমৎকার তাপ এবং বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা, সেইসাথে MOCVD প্রক্রিয়ার উচ্চ তাপমাত্রা সহ্য করার ক্ষমতার জন্য পরিচিত। এই MOCVD সাসেপ্টরের মূল বৈশিষ্ট্যটি এর TaC আবরণে রয়েছে। ট্যানটালাম কার্বাইড একটি অবাধ্য সিরামিক উপাদান যা এর ব্যতিক্রমী কঠোরতা, রাসায়নিক জড়তা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতার জন্য বিখ্যাত। গ্রাফাইট সাসেপ্টরকে TaC দিয়ে আবরণ করার মাধ্যমে, আমরা এমন একটি উপাদান অর্জন করি যা কেবলমাত্র MOCVD প্রক্রিয়াগুলির চাহিদাপূর্ণ অবস্থাকে সহ্য করে না বরং সিস্টেমের সামগ্রিক কর্মক্ষমতা এবং স্থায়িত্বও বাড়ায়।
TaC আবরণ সহ MOCVD সাসেপ্টর আবরণ এবং গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের মধ্যে একটি শক্তিশালী বন্ধন নিশ্চিত করে। গ্রাফাইটের যত্নশীল নির্বাচন এতে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। TaC আবরণ সহ আমাদের MOCVD সাসেপ্টরে ব্যবহৃত গ্রাফাইটের তাপীয় সম্প্রসারণের সহগ (CTE) TaC আবরণের সাথে ঘনিষ্ঠভাবে মেলে। CTE মানগুলির মধ্যে এই ঘনিষ্ঠ মিলটি তাপীয় চাপগুলিকে কমিয়ে দেয় যা MOCVD প্রক্রিয়াগুলিতে সাধারণ দ্রুত গরম এবং শীতল চক্রের সময় ঘটতে পারে। ফলস্বরূপ, TaC আবরণ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের সাথে আরও দৃঢ়ভাবে মেনে চলে, উল্লেখযোগ্যভাবে সাসেপ্টরের যান্ত্রিক অখণ্ডতা এবং জীবনকাল বৃদ্ধি করে।
TaC আবরণ সহ MOCVD সাসেপ্টর অত্যন্ত টেকসই এবং যান্ত্রিক চাপ এবং MOCVD প্রক্রিয়ার কঠোর অবস্থার অবনতি ছাড়াই প্রতিরোধ করতে পারে। উচ্চ-ফলনকারী এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির জন্য প্রয়োজনীয় সুনির্দিষ্ট জ্যামিতি এবং পৃষ্ঠের গুণমান বজায় রাখার জন্য এই স্থায়িত্ব অপরিহার্য। শক্তিশালী TaC আবরণ সাসেপ্টরের কার্যক্ষম জীবনকেও প্রসারিত করে, প্রতিস্থাপনের ফ্রিকোয়েন্সি হ্রাস করে এবং একটি MOCVD সিস্টেমের মালিকানার সামগ্রিক খরচ কমায়।
TaC এর তাপীয় স্থিতিশীলতা TaC আবরণ সহ MOCVD সাসেপ্টরকে দক্ষ MOCVD প্রক্রিয়াগুলির জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ তাপমাত্রায় কাজ করতে দেয়। এর মানে হল যে TaC আবরণ সহ MOCVD সাসেপ্টর নিম্ন-তাপমাত্রার GaN বৃদ্ধি থেকে উচ্চ-তাপমাত্রার SiC এপিটাক্সি পর্যন্ত বিস্তৃত ডিপোজিশন প্রক্রিয়াকে সমর্থন করতে পারে, যা বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য তাদের MOCVD সিস্টেমগুলিকে অপ্টিমাইজ করতে চাওয়া সেমিকন্ডাক্টর নির্মাতাদের জন্য এটি একটি মূল্যবান উপাদান করে তোলে।
TaC আবরণ সহ Semicorex MOCVD সাসেপ্টর সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সিতে একটি উল্লেখযোগ্য অগ্রগতির প্রতিনিধিত্ব করে। গ্রাফাইট এবং TaC-এর বৈশিষ্ট্যগুলিকে একত্রিত করে, আমরা একটি সাসেপ্টর তৈরি করেছি যা আধুনিক MOCVD প্রক্রিয়াগুলির চাহিদাগুলিকে শুধুমাত্র পূরণ করে না। গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট এবং TaC আবরণের মধ্যে তাপীয় সম্প্রসারণ (CTE) এর ঘনিষ্ঠভাবে মিলে যাওয়া সহগগুলি একটি শক্তিশালী বন্ধন নিশ্চিত করে, যেখানে ব্যতিক্রমী কঠোরতা, রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তা এবং TaC-এর তাপীয় স্থিতিশীলতা অতুলনীয় সুরক্ষা এবং স্থায়িত্ব প্রদান করে। এর ফলে একটি সাসেপ্টর তৈরি হয় যা উচ্চতর কর্মক্ষমতা প্রদান করে, এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির গুণমান বাড়ায় এবং MOCVD সিস্টেমের কর্মক্ষম জীবনকে প্রসারিত করে। সেমিকন্ডাক্টর নির্মাতারা উচ্চ ফলন, কম খরচ এবং বৃহত্তর প্রক্রিয়া নমনীয়তা অর্জনের জন্য TaC আবরণ সহ আমাদের MOCVD সাসেপ্টরের উপর নির্ভর করতে পারে, এটিকে প্রযুক্তিগত উদ্ভাবন এবং সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে শ্রেষ্ঠত্ব অর্জনের জন্য একটি অপরিহার্য উপাদান করে তোলে।