উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার

সেমিকোরেক্স উচ্চ বিশুদ্ধতাগ্রাফাইটপাউডার সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। ব্যতিক্রমী বিশুদ্ধতা মাত্রা এবং উচ্চতর শারীরিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্য সহ, এই উপাদান কঠোর কর্মক্ষমতা মান প্রয়োজন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য অপরিহার্য।

মূল বৈশিষ্ট্য

• ব্যতিক্রমী বিশুদ্ধতা: উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট পাউডার সাধারণত 99.9% এর বেশি কার্বন সামগ্রী অর্জন করে, স্ফটিক বৃদ্ধির প্রক্রিয়া চলাকালীন ন্যূনতম দূষণ নিশ্চিত করে। সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারের অখণ্ডতা এবং গুণমান বজায় রাখার জন্য এই স্তরের বিশুদ্ধতা অপরিহার্য।
• চমৎকার তাপ পরিবাহিতা: উপাদানের উচ্চতর তাপ পরিবাহিতা অভিন্ন তাপ বিতরণকে সক্ষম করে, অর্ধপরিবাহী স্ফটিকগুলির জন্য নিয়ন্ত্রিত বৃদ্ধির পরিবেশ বজায় রাখতে গুরুত্বপূর্ণ।
• উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধ: উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার অবনতি ছাড়াই চরম তাপমাত্রা সহ্য করতে পারে, এটি অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে ব্যবহৃত উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লিগুলির জন্য আদর্শ করে তোলে।
• রাসায়নিক স্থিতিশীলতা: রাসায়নিক বিক্রিয়ার প্রতিরোধ ক্ষমতা উচ্চ তাপমাত্রা এবং প্রতিক্রিয়াশীল পরিবেশ সহ কঠোর পরিস্থিতিতে দীর্ঘায়িত এক্সপোজারের সময় স্থায়িত্ব এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে।
• কাস্টমাইজযোগ্য কণার আকার: বিভিন্ন কণা আকারে উপলব্ধ, পাউডারটি বিভিন্ন সেমিকন্ডাক্টর স্ফটিক বৃদ্ধির প্রক্রিয়াগুলির নির্দিষ্ট চাহিদা পূরণের জন্য তৈরি করা যেতে পারে।

সেমিকন্ডাক্টর ক্রিস্টাল বৃদ্ধিতে অ্যাপ্লিকেশন

1. SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধি:

উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার ব্যাপকভাবে সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্ফটিক বৃদ্ধিতে ব্যবহৃত হয়, একটি প্রক্রিয়া উন্নত সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস তৈরির জন্য গুরুত্বপূর্ণ। পাউডারটি ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট উপাদানগুলির উত্পাদনে ব্যবহার করা হয়, যেমন ক্রুসিবল এবং নিরোধক উপকরণ, যা উচ্চ-মানের SiC স্ফটিকগুলির বৃদ্ধিকে সমর্থন করে। এর উচ্চ বিশুদ্ধতা অমেধ্যকে হ্রাস করে, যার ফলে ক্রিস্টালগুলির বৈদ্যুতিক এবং তাপীয় বৈশিষ্ট্যগুলিকে উন্নত করে।

2. ফটোভোলটাইক সিলিকন ক্রিস্টাল বৃদ্ধি:

ফটোভোলটাইক শিল্পে, উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার একক-ক্রিস্টাল এবং পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন বৃদ্ধির জন্য উপাদানগুলির উৎপাদনে নিযুক্ত করা হয়। এই উপাদানগুলি, যেমন ছাঁচ এবং হিটার, সৌর কোষের জন্য সিলিকন ওয়েফার তৈরিতে সামঞ্জস্যপূর্ণ গুণমান এবং ফলন নিশ্চিত করে।

3. এপিটাক্সিয়াল স্তর জমা:

উপাদানটি এপিটাক্সি প্রক্রিয়াগুলিরও অবিচ্ছেদ্য অংশ, যেখানে অর্ধপরিবাহী উপাদানের স্তরগুলি বৃদ্ধির জন্য সুনির্দিষ্ট তাপ এবং রাসায়নিক অবস্থার প্রয়োজন হয়। উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার এপিটাক্সি উপাদান তৈরিতে অবদান রাখে, যেমন সাসেপ্টর, যা ব্যতিক্রমী তাপ এবং রাসায়নিক কর্মক্ষমতা দাবি করে।

4. গ্রাফাইট-ভিত্তিক তাপ নিরোধক:

স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লিগুলিতে, গ্রাফাইট পাউডার স্থিতিশীল তাপীয় পরিবেশ বজায় রাখার জন্য নিরোধক উপকরণ তৈরি করতে ব্যবহার করা হয়। এটি প্রক্রিয়ার দক্ষতা বাড়ায় এবং বেড়ে ওঠা স্ফটিকগুলির অভিন্নতা নিশ্চিত করে।

সেমিকোরেক্সের উচ্চ বিশুদ্ধতাগ্রাফাইটপাউডার তার অতুলনীয় গুণমান এবং অ্যাপ্লিকেশন-চালিত নকশার কারণে দাঁড়িয়েছে। আমাদের কঠোর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলি সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের সঠিক প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করার জন্য ধারাবাহিকতা, উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং উপযোগী স্পেসিফিকেশন নিশ্চিত করে।

সেমিকোরেক্স উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট পাউডার সেমিকন্ডাক্টর ক্রিস্টাল বৃদ্ধির একটি ভিত্তি উপাদান, যা চাহিদাযুক্ত অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে অতুলনীয় কর্মক্ষমতা প্রদান করে। এর ব্যতিক্রমী তাপীয়, রাসায়নিক এবং কাঠামোগত বৈশিষ্ট্যগুলি উন্নত সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির সফল উত্পাদন নিশ্চিত করে। উদ্ভাবন এবং মানের প্রতি প্রতিশ্রুতি সহ, Semicorex সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াগুলিতে শ্রেষ্ঠত্ব অর্জনের লক্ষ্যে প্রস্তুতকারকদের জন্য একটি বিশ্বস্ত সমাধান প্রদান করে।