Semicorex SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ার, উচ্চ-কার্যকারিতা ওয়েফার বহনকারী উপাদান, উন্নত ধাতব-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা করার সরঞ্জামগুলিতে ওয়েফার এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির জন্য ইঞ্জিনিয়ার করা হয়েছে। সেমিকোরেক্সের সাথে অংশীদারিত্ব করে, আপনি ধারাবাহিক কর্মক্ষমতা, প্রতিযোগিতামূলক মূল্য এবং চিন্তাশীল পরিষেবা উপভোগ করবেন।
সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার ফ্যাব্রিকেশনে, ওয়েফার সাবস্ট্রেটে একটি এপ্ট্যাক্সিয়াল স্তর তৈরি করা দরকার যাতে সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলি পরবর্তী ধাপে তৈরি করা যায়। ওয়েফার এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়ার অপরিহার্য উপভোগযোগ্য উপাদান হিসাবে যা সরাসরি ওয়েফার সাবস্ট্রেটের সাথে যোগাযোগ করে, SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলির কার্যকারিতা এপিটাক্সিয়াল উপাদান বৃদ্ধির অভিন্নতা এবং বিশুদ্ধতার উপর একটি উল্লেখযোগ্য প্রভাব ফেলে। এই কারণে, ব্যবহারকারীদের জন্য একটি সর্বোত্তম SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ার বেছে নেওয়া অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।
ওয়েফার ক্যারিয়ারের ভিত্তি তৈরি করতে উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট গ্রহণ করা এবং একটি ইউনিফর্ম নিয়োগ করাCVD SiC আবরণওয়েফার ক্যারিয়ারকে "প্রতিরক্ষামূলক বর্ম" দিতে সেমিকোরেক্স একটি উচ্চ-মানের SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ার অফার করার জন্য নিবেদিত যা চ্যালেঞ্জিং এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াগুলিতে ওয়েফার সাবস্ট্রেটের জন্য নির্ভরযোগ্য কাঠামোগত সহায়তা প্রদান করতে সক্ষম, যার ফলে এপিটাক্সিয়াল উপাদানগুলির স্থিতিশীল এবং নির্ভরযোগ্য বৃদ্ধি নিশ্চিত করা যায়।
উ: গ্রাফাইট বেসের উচ্চতর তাপ পরিবাহিতা রয়েছে, যা এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়ার সময় দ্রুত এবং এমনকি তাপ বিতরণ করতে সক্ষম করে।
B. তাপ সম্প্রসারণের তুলনামূলকভাবে কম সহগ বিশিষ্ট, গ্রাফাইট বেস আমাদের নিশ্চিত করতে পারেSiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ারসহজে বিকৃত না হয়ে ঘন ঘন তাপচক্র সহ্য করুন।
C. গ্রাফাইট উপাদানগুলি চমৎকার যান্ত্রিক শক্তির গর্ব করে, তাই আমাদের SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি দীর্ঘমেয়াদী এপিটাক্সি অ্যাপ্লিকেশনের সময় ওয়েফার সাবস্ট্রেটগুলিকে নিরাপদে সমর্থন করতে সক্ষম।
CVD SiC আবরণের বিশুদ্ধতা ppb স্তরে পৌঁছাতে পারে, যা ওয়েফার ক্যারিয়ার এবং ওয়েফার সাবস্ট্রেটের মধ্যে দূষণকে কমিয়ে দেয়, এইভাবে সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের কঠোর পরিচ্ছন্নতার প্রয়োজনীয়তা সম্পূর্ণরূপে সন্তুষ্ট করে।
CVD SiC আবরণ একটি ঘন কাঠামো বৈশিষ্ট্যযুক্ত এবং উচ্চ-তাপমাত্রা এবং উচ্চ-ক্ষয়কারী পরিবেশ থেকে গ্রাফাইট বেসকে সম্পূর্ণরূপে বিচ্ছিন্ন করতে সক্ষম এবং কার্যকরভাবে গ্রাফাইট বেসের রাসায়নিক ক্ষয় এবং অক্সিডেশনকে বাধা দেয়, এইভাবে দীর্ঘমেয়াদী পরিষেবাতে আমাদের SiC-কোটেড গ্রাফাইট ওয়েফার ক্যারিয়ারের নির্ভরযোগ্য অপারেশন নিশ্চিত করে।
CVD SiC আবরণ ব্যতিক্রমী তাপ পরিবাহিতা এবং গ্রাফাইট বেসে অনুরূপ তাপীয় সম্প্রসারণ প্রদান করে। এটি গ্রাফাইট বেসের সাথে শক্তিশালী বন্ধন শক্তি প্রদর্শন করে এবং তাপমাত্রার নাটকীয় পরিবর্তনের মধ্যেও ফাটল বা খোসা ছাড়ানোর প্রবণতা কম।